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集成技术中心技术报告 电子束曝光技术 中国科学院半导体研究所 半导体集成技术工程研究中心 韩伟华 Email: weihua@semi.ac.cn 提 要 设备的组成、性能及相关工艺设备 电子束曝光设备的操作程序 电子束曝光的关键技术 曝光模板的设计 电子束光刻胶的厚度控制 电子束的聚焦 坐标系的建立与写场对准 纳米套刻技术 电子束扫描方式与曝光 电子束剂量的比较与技术参数 高分辨率的纳米曝光图形的实现 电子束光刻用户的培训 设备的组成与性能 德国EBL Raith150 主要用途 • 量子纳米器件的微结构：如纳米电子器件，AB环