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高纯水设备系统的工作原理介绍资料下载 一、EDI 系统概述: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显 示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超 大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。 集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工 业部把电子水质技术分为五个行业标准，分别为1MΩ.cm、 5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以区分不同水质。 制备电子工业用超纯水的工艺流程 电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种： 1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为：原 水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴 床(复床)→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程 为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压 泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→ 后置精密过滤器→用水点 3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备，这是一种 制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的 超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→ 多介质过滤器→精密过滤器→高