TiAlON膜的研究现状与进展.pdfVIP

_ 7 c．2叭4 TiAION膜的研究现状与进展 张 钧 。蔡佳婧，张正贵 (沈阳大学机械工程学院，辽宁 沈阳 110044) [摘 要] 对TiAION薄膜的制备技术、组织结构及特性进行了综述，指出了膜层的性能优化方法与途径，展望了 膜层未来的应用方向。 [关键词] TiA1ON薄膜；组织结构；特性；研究现状；进展 [中图分类号]TB43 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2014)12—0042—03 0 前 言 基体间的附着力较低口；(3)膜层较为疏松，沉积效率 较低 ；(4)膜层组成易控制，可 以制造组分均匀的合金 新型薄膜TiA1ON兼具硬质膜和功能膜特征，具有 膜 。 极大的应用潜力。目前，TiA1ON薄膜已经成为国内外 表 1为制备TiA1ON膜层的典型工艺。通过调整 重要的膜层研究体系之一，其探索主要在 以下两方面 反应气体流量、反应气体所 占分压来控制TiA1ON膜层 取得了较大的进展：(1)作为硬质膜的成分、组织、微观 的成分。 结构和相关力学性能；(2)作为太阳能选择性吸收功能 表 1 TiAION膜层制备的典型工艺 膜层。以下对 TiA1ON膜的制备技术、组织结构、特性 等进行评述，提出该膜系性能优化的方法与途径，并对 工艺 基材 H成 ：／茭： 膜层的应用前景进行展望。 N，290～380 O 0—9O 500～55() 1 TiAION膜层的制备技术及特点 总 380 Al，Ti原子 比为 0 ：50 TiAI N，l0．O0 溅射镀 合 硬质 5 I~ 0 0 J4~l_50 35 ‘ TiA1ON膜层的制备主要采用真空电弧离子镀和真 金 ． 99％Ti龛 与A1靶的镶嵌靶 空溅射镀膜，其中真空溅射镀膜主要包括磁控溅射和 高能离子束溅射。 2 TiAION膜层的结构及特性 真空电弧离子镀制备TiA1ON膜层的特点：(1)膜 层与基体附着力较强，不易脱落；(2)沉积效率高，成膜 2．1 晶体结构及相组成 速度快，膜层较厚，易获得比较致密的晶体结构…；(3) TiA1ON复合膜含有多种组元，存在 2种原子的置 膜层表面易存在大颗粒 (达到几个微米)，一定程度上 换，即Ti被 Al置换 ，N被 O置换。TiAION复合膜层的 影响了膜层表面的光滑度 ，这也是电弧离子镀技术在