氮氧化铪薄膜力学与光学特性研究.pdfVIP

真 空 科 学 与 技 术 学 报 第34卷 第9期 CHINKSEJ0URNALOFVACUUM SCIENCEANDTECHNOLOGY 2014年 9月 氮氧化铪薄膜力学与光学特性研究 董茂进 王多书 熊玉卿 王济洲 李 晨 张 玲 (兰州空间技术物理研究所 ，表面工程技术重点实验室 兰州 730000) SynthesisandCharacterizationofM echanicalandOptical PropertiesofHfON Coatings DongMaojin ，WangDuoshu，XiongYuqing，WangJizhou，LiChen，ZhangLing (ScienceandTechnologyOnSurfa~Ensi=e~ingLaboratory，~lI1ghou,InstituteofPhysics， ， u730000，Ch／n~) Abstract Thehafnium oxynitridethinfilms，asagoodprotectivecoatingofinfraredwindowmaterials，weresynhte— sizedbyion-beam-assistedreactivedepositionOntheZnSsubstrate~7ownbychemicalvapordeposited(CVD)．Theinflu- enceofhtesynhtesisconditions，depositionrateinparticular，Oilhtestoichiometricratio，mechanicalandopticalproperties ofhteHfON coatingswereevaluated．Th eHtON caotings werecharacterizedwithX—mydiffraction。X—rayphotoelectron spectroscopy，nadconventionalopticalprobes．Theresultsshowhtathtedepositionratesignificnatlyaffectshtemechnaical nadoptical propertiesofhteHfON coatings ．Forinstance，as htedepositionratedecreasde from 0．8to0．05nm ／s，accom— panide byanincreaseofnitrogencontent，hterigidityofhteI-IfON film increasedfrom 7．29to10．67GPa；itsrefractive indexdcereasedfrom 1．95to1．80，itsextinctioncoefficientincreasedfrom 1×10一 to8×10一。；and itsband—gapde． creasedfrom 5．62t05．5eV． Keywords Th infilm，Hf0N，Mcehanicscharacterization，Opticscharacterization 摘要 氮氧化铪薄膜透射率高，带隙宽，机械性能好，是一种较好的窗口保护薄膜。采用离子束辅助反应蒸发的方法沉 积具有高透射率的多光谱氮氧化铪薄膜，通过控制沉积速率改变膜层中N、0化学计量比，研究氮氧化铪中N、O化学计量比不 同对薄膜力学和光学性能的影响规律。随着沉积速率从0．8减小到0．05nm／s，氮含量增高，薄膜的硬度从 7．29增大到 10．67 GPa，氮氧化铪薄膜的折射率从 1．95降低到 1．80，而消光系数从 1×10I3增大到8×10～，禁带宽度从5．62减小到5．5ev。 关键词 薄膜 氮氧化铪 力学特性 光学特性 中图分类号：0433．3 文献标识码：A doi：10．13922／j． ．cjovst．20l4．09．16 红外窗口材料除了必须具有高的红外透过率、 见光到红外光波段 (0．2～12a／n)都有较高的透过