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2000年10月·广西·北海 第七届全国固体薄膜学术会议 异常衍射精细结构谱研究超薄金属多层膜 罗光明 麦振洪 中圆科学院物理研究所及凝聚态物理中心，100080 T．P．AH鹊e ofDutCh．DHl 3LE,UK Dep韭删ofPhysics，Uniwtity 吴忠华蒋海英丁永凡王俊 中国科学院高能物理研究所北京同步辐射实验室 近十几年来．巨磁电阻超薄金属多层膜由于其物理机制和应用背景而受到人们的广摄 关注。金属薄膜中，镀磁爿#磁性嗽磁掏舶层问耦台和巨磁电阻效应、反铁磋，铁磁材料问 的变换藕台的研究在近几年来取得较大的进晨。研究表明．巨磁电阻效应和反铁磁，铁磁交 制 能 关 X- 谱方法，我们可以从谱线中同时得到材料的长程序和短程序。这种方法同时具有XRD和 EXAFS的优点．即位置和元素的选择性．针对趣薄金属多层膜的特点，实验中我们测量薄 膜的小角衍射峰强度随能量的变化。这样，可以得到各种元素在多层膜中的空间分布和菩 元素摄子周匿的近邻庠。从而可{=上确定超薄薄膜界面区域元素的分布、备层层内的短程序 等参数。样品是用溅射方法生长在常温水冷却的8i衬底上．x射线实验分别在英国 璜m bImr衍射站和北京同步辐射实验室衍射站进行。实验中，我们研究了NiFe，Cu多层膜 的热稳定性以及在NiFe／Cu界面处插入大约4ACo科多层膜界面徽结构及热稳定性的影 响。 NiFe由于eⅡ层的应变而成类似Cu的结构，而在C-hffNiFo界面处，应变不存在。当退火温 度高于1500c时，在NiFe／Cu界面处应变开始随着退火温度的升高丽逐渐消失。当退火温 度高于250。C时．NiFe和cn沿着屠内的缺雕5(如晶界)出现明显扩散。同时．在界面处，即 使在250)(2最度下退火，在NiFe／Cu界面处我们设有观察到NiFe,Cu台金的存在。 在NiYedCu界面处插入大约4ACo后，NiVegOu界面处仍然存在应变．在NiFe，Cu界面 层中瑶新往NiFe层扩数。但随着层内缺陷(如晶界)的扩鼓要少于来插co的NiFeJOu薄 膜。可见，在界蕊处插入的co层对于提高薄膜的热稳定性有好处。 异常衍射精细结构谱研究超薄金属多层膜 作者： 罗光明， 麦振洪， 吴忠华， 蒋海英 作者单位： 罗光明,麦振洪(中国科学院物理研究所及凝聚态物理中心)， 吴忠华,蒋海英(中国科学院高能物理研究所北京同步辐射验室) 本文读者也读过(10条) 1. 罗光明.姜宏伟.徐明.吴忠华.蒋海英 DAFS研究NiFe／Cu多层膜结构 [会议论文]-1998 2. 罗小娟.袁占亭.张秋余.宋键 SSL安全通道技术在电子商务中的实现[会议论文]-2000 3. 武洪臣.杨向东 层流等离子射流特性及其制备WC/Co涂层的初步工艺试验[会议论文]-2000 4. 孙建海 JMA2254雷达典型故障诊断[会议论文]-2000 5. 马玉蓉.沈维康.陈刚.王冠中.方容川 衬底温度和激光能量对激光制备类金刚石薄膜的影响[会议论文]-2000 6. 蓝毓俊.陈芯蕊 上海浦东新区德州小区配电网改造工程的后评估[会议论文]-2000 7. 叶志镇.张昊翔.赵炳辉.刘红学 氮化硅层在GaN外延生长中的作用[会议论文]-2000 8. 肖志松.徐飞.谢大韬 高浓度掺铒硅发光薄膜的制备[会议论文]-2000 9. 李长忠 沉降地层