钙钛矿型氧化物SrTiO-%2c3-%2fBaTiO-%2c3-多层膜地激光分子束外延生长研究.pdfVIP

姚海军 等：钙钛矿型氧化物SrTiO /BaTiO 多层膜的激光分子束外延生长研究 2889 3 3 钙钛矿型氧化物SrTiO /BaTiO 多层膜的 3 3 激光分子束外延生长研究* ∗ 姚海军，李 燕，罗佳慧，姜 斌，邓 宏，蒋书文 （电子科技大学微电子与固体电子学院，四川 成都 610054 ） 摘 要：用激光分子束外延技术在 SrTiO3 （00 1）衬 大的影响，所以制备小尺寸、完整晶格和表面平整的 底上外延生长 SrTiO3/BaTiO3 多层膜，通过反射式高 BTO/STO 超晶格薄膜成为关注的热点，同时也对当 能电子衍射 （RHEED ）原位实时监测并结合原子力显 前铁电、压电性能的研究以及高密度铁电存储器的研 微镜 （AFM ），研究了不同基片温度下所生长薄膜的 究具有十分重要的意义。 表面平整度，利用X 射线衍射 （XRD ）对外延薄膜进 我们采用激光分子束外延技术在 SrTiO3 基片上 外延生长 SrTiO /BaTiO 多层膜，研究了基片温度对 行了结构分析，结果表明薄膜具有二维生长模式，在 3 3 基片温度为 380~470℃之间生长的薄膜具有原子级光 薄膜表面平整度的影响，并初步的分析了成膜粒子在 滑，并且具有完全C 轴取向。同时运用X 射线光电子 界面处的互扩散。 能谱（XPS ）研究了薄膜界面的互扩散, 结果表明降 2 实 验 低制备薄膜时的基片温度有利于减少互扩散。 关键词：激光分子束外延；SrTiO /BaTiO ；多层膜； [2] 3 3 实验采用激光分子束外延技术 ，在SrTiO3 基片 反射式高能电子衍射；原子力显微镜 上外延生长[(SrTiO ) /(BaTiO ) ] 多层膜(其中n 代表 3 n 3 n m 中图分类号：TN04 文献标识码：A 单层膜的原胞层数、m 代表整个多层膜的周期数) 。 文章编号：1001-9731 （2004 ）增刊 采用ArF 准分子激光器 （248nm ）作为光源，在激光 功率 100mJ ，频率3Hz ，工作室真空度为2.7 ×10-5Pa ， 1 引 言 基片温度300~600℃的工艺条件下，在SrTiO3 基片上 近十几年来，高温超导研究极大地推动了氧化物 交替外延生长 SrTiO3 、BaTiO3 薄膜。在叠加不同成 分的薄膜时，间歇 100s 时间来获得一个相对平整的 薄膜制备技术的发展，为氧化物薄膜的应用和研究创 造了条件。而钙钛矿结构的 SrTiO3 和BaTiO3 氧化物 界面再开始沉积另一种材料。基片采用NH4F 缓冲溶 薄膜已成为近十年来氧化物材料的研究热点之一。 液浸泡 10min[3] ，然后用乙醇和丙酮清洗，以得到良 好的基片表面。外延生长过程由RHEED 进行原位实