不同沉积角度对氟化镱薄膜性质的影响.pdfVIP

第38卷第 1期 光 电工程 V0l1．38．NO．1 2011年 1月 Opto—ElectronicEngineering Jan．20l1 文章编号：1003—501X(2011)01—0103—04 不同沉积角度对氟化镱薄膜性质的影响 林大伟，黄 伟，熊胜明，孔明东 (中国科学院光电技术研究所，成都 6l0209) 摘要：采用特定的工艺同一罩镀制三种不同基片倾斜角度下的氟4~ (YbF3)薄膜样品，分别采用原子力显微镜、 红外分光光度计测量了单层膜的粗糙度、透射率，根据透射率值采用包络法计算了薄膜的折射率，并由堆积密度 的计算公式计算了薄膜的堆积密度 测量及计算结果表明：随着基片倾斜角度即相应薄膜沉积角度的增加，薄膜 的粗糙度变差，折射率及堆积密度变小。 关键词：蒸汽入射角度；粗糙度；折射率；聚集密度 中图分类号：0484．5 文献标志码 ：A doi：10．3969j／．issn．1003—501X．2011．01．020 EffectofDifferentDepositionAngleonthePerformanceofYbF3Film LIN Da-wei，HUANGW ei，XIONG Sheng—ming，KONG Ming-dong (1nstitudeofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China) Abstract：YbF3filmswerepreparedunderthreedifferentvaporincidenceangleswith specialtechnics．M icro—surface roughnessand transmissivity ofthe film were measured by Atom Force Microscopy (AFM)and infrared spectrophotometer,respectively．Itsrefractiveindexwascalculatedusingenvelopemethodandthestackingdensitywas evaluatedaccordingtOthecalculatedrerfactiveindex．Theexperimentalresultsindicatethatsurfaceroughtnessofthe film deteriorateswiththeincrementofthevaporincidenceangle，whilethererfactiveindexandthestackingdensity decreaseswiththeincrementofthevaporincidenceangle． Keywords：vaporincidenceangle；roughness；refractiveindex；stackingdensity 0 引 言 在行星转动夹具上放置镀膜基片，行星转动盘与水平方向的夹角即为基片倾斜角度 ，不同倾斜角度对 应不同的沉积角度。有文献¨ 艮道了蒸汽入射角影响薄膜呈柱状的微结构，其柱体的倾斜角度 和蒸汽 入射角 的关系将遵循tanq~=c·tanqv的关系(c为试验确定的系数)，同时引起薄膜的光机电特性各向异性； 笔者在研制中红外高反射膜过程中发现 ：在一定范围内，薄膜的反射率随基片倾斜角度的增大而减小，由 此对所用镀膜材料制备的单层膜性质随基板倾斜角度的变化进行了研究。本文选特定工艺条件下倾斜角度 分别为25。、45。、60。时所制备的YbF3薄膜的粗糙度、折射率进行了测量，并计算了薄膜的堆积密度，考 查了薄膜的疏密度。 1 样品制备 本次实验所用的样品由H441lII一1型箱式镀膜机制备，采用阻蒸蒸发方式；并以行星转动系统转动样 品，行星盘与水平方向的夹角分别设为 25。、45。、和 60。，基片放在工件盘的边缘，在同一罩中镀制不同 角度放置的样品