聚变堆中碳原子在碳氢薄膜表面再沉积行为的分子动力学模拟研究.pdfVIP

第3 ( ) 卷第4 l { I 核聚变与等扁f - 体物删 V01．30 ．No ．4 2 0 l 0年12 月 Nucl ear Fus i on and Pl asma Dcc ．2( ) l ( ) Physi c s 1 l 2埘 文章编 号：02 54- 卅) 6(20 0) 04- - 03 聚 变 堆 中 碳 原 子 在 碳 氢 薄 膜 表 面 再 沉 积 行 为 的 分 子 动 力 学 模 拟 研 究 赵成利1, 2 孙伟中3，刘华敏3，张浚源3，吕晓丹 1， 秦尤敏1，宁建平 1，贺平逆 1，潘宇东4 ，苟富均3 ’5 ( 1．贵州大 学等离子体与材料表面作用研 究所，贵 阳5500 25；2 ．贵州大 学理学 院．贵阳55002 5； 3．四川大学原子核科学技术研 究所．辐射物 理及技术教育部重点吏验事 ．成都610064 ； 4 ．核工业 西南物理研究院，成都610041；5．衙兰皇家科学院等离子体所 ．荷兰230 0) 摘要：利用分子动力学方法模拟 了碳原子与碳氢薄膜的作用过程 。探讨了不 同入射能量对碳原子与碳氢薄 膜相互作用 的影响。模拟结果表 明碳原子与碳氢薄膜作用会在表面形成碳薄膜 。随着入射能量 的增加，碳薄膜厚 度变薄。在碳薄膜中碳原子 的成键形式主要为C。p2-C。p2和c 3p2—c 哪，随入射能量 的增加，碳原子键价结合形式 从Csp2- Csp2 向Cs p2—C。p3 转化 。 关键词 ：分子动力学；碳氢薄膜 ；再沉积；碳薄膜 中图分类号 ：TL62+7 ‘文献标识码：A 1 引言 原子的刻蚀量与入射氢原子流密度有着密切关系。 托卡马克核聚变装置中，作为面向等离子体的 Tr 蕴s kel i n和Sa l onen等人使用分子MD模拟CH3在 石墨材料被逃逸的H+离子持续轰击，形成一层非晶 c基底表面 的沉积机制 【l 2l 。结果表明，CH3的沉积 态碳氢薄膜，同时产生溅射产物CxH，l I - 31。由于这 率与CH3的粘附截面和表面悬键密度有密切关系。 些产物与约束区内的等离子体发生相互作用，可能 本文将利用分子动力学方法模拟不同入射能量 分解成C、H、CH、CH2等产物。这些分解产物可 c 原子与CH薄膜 的相互作用 。讨论了在不 同能量 能再次与形成的碳氢薄膜作用14J 。因此 ，研究C，H， 下c 原子与形成 的碳薄膜相互作用对碳薄膜表面 分解产物与碳氢薄膜 的作用能够更全面的了解等 粗糙度 的影响，分析 了不I —J 能量下c 原子与碳薄膜 离子体与壁材料相互作用过程，促进核聚变装置 中 中c 原子相互作用时对沉积c 原子杂化形式和C 壁材料的发展15 J 。 原子 问键价结合形式的影响。 分子动力学( MD) 方法是一种从原子水平上模 拟等离子体与 固体材料相互作用 的有力手段 16q 】。 2模拟方法 Neyt s 使用MD方法模拟了碳氢化合物与类金刚石 MD模拟体系 中各原子受到的力通过对原子 问 表面相互作用 【l o】。结果表明，表面形成一层CH薄 相互作用势能求偏导获得 ‘1 ·1910因此，