湿法清洗中兆声波清洗工艺与应用.pdfVIP

新技 。新工艺 清洗世 界 第31卷第 l期 CleaningW orld 2015年 1月 文章编号：1671—8909(2015)01—0038—05 湿法清洗 中兆声波清洗工艺与应用 王文丽，夏楠君 ，陈仲武 (中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京 101601) 摘 要：简述了兆声波清洗工艺的原理、特点，介绍其在清洗设备中的应用与前景。 关键词：兆声波；超声波；硅片；清洗工艺 中图分类号：TN305．97 文献标识码 ：B StudyonM egacousticinW etCleaningTechnology WANGWenli，XIANanjun，CHENZhortgwu (The45thResearchInstiuteofCETC，Beijing101601，China) Abstract：Thispaperintroducestheprinciple，characteristicsand application ofultrasonic cleaning technologyincleaningequipment，andprospectstheapplicationofmegasoniccleaningprospected． Keywords：megacoustic；ultrasonic；silicon；cleaningprocess 高，声传播的效率会降低 ，所以兆声波清洗技术效果 并不是频率越高越好 。 目前，一般用的频率范围是 Schwanzman等人_1]，1993在 SC1、SC2清洗时 (700～1000)kHz。 使用了兆频超声技术，获得前所未有的清洗效果 ，使 2 兆声波清洗原理简介 得该方法在清洗工艺中被广泛采用，也引发了对超 声波增强清洗效果的规律与机理的研究。1995年 声能在液体内传播时．液体会沿声传播的方向 Busnaina的研究表明。兆频超声波去除粒子的能力 运动，形成声学流 (Acousticstreaming)，声学流是 由 与溶液的组成 、粒子的大小、超声波的功率及处理时 声波生产的力和液体的声学阻力以及其他的气泡阻 间有关。1997年 Olim ]发现兆频超声去除粒子的 力形成的液体的流动的效果 3]，兆声波清洗就是利 效率与粒子直径的立方成正 比，并 由此推断兆频超 用声能产生的液体流动来去除硅片表面的污染物， 声无法去除0．1 m以下的粒子。但是 ，兆声波清洗 其原理见图1。 抛光片可去掉晶片表面上0．2m的粒子，起到超 兆声波清洗是由高频 (700～1000kHz)的波长 声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片 短(1．5 m左右)的高能声波推动溶液做加速运动， 和化学清洗两种方法的作用 。兆声波清洗方法 已成 使溶液以加速的流体形式连续冲击硅片表面，使硅 为抛光片清洗的一种有效方法。但是．随着频率升 片表面的颗粒等污染物离开硅片进入溶液中，达到 收稿 日期：2014—11—10 作者简介：王文丽(1988一)，女，助工，硕士研究生 ，主要从事半导体湿法清洗设备的研制和应用工作。 第31卷 王文丽等 ．湿法清洗中兆声波清洗工艺与应用 ·39· 的对 比(见