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纳米压印技术、表面纳米结构及新颖光学器件研究 纳米压印技术、表面纳米结构及新颖光学器件研究 王庆康 (上海交通大学微纳科学技术研究院，上海200030) 摘要：纳米加工技术的崛起和发展，为新颖纳米器件的发展提供了强大的技术支撑。其中 纳米压印曝光技术和基于表面纳米结构特殊光学性质的新颖光学器件，引起了人们 极大的关注，本文介绍了这一领域的发展简况。 关键词：纳米压印技术；表面纳米结构；纳米光学器件 当前作为信息社会重要技术支撑的微加工技术，微米结构图形技术产生和 转移是通过可见光的曝光技术来实现的。当结构特征线宽的尺寸小于250nm， 由于光学衍射需要的限制，就要求用更短波长的光作为曝光的光源，导致今天 深紫外(波长为193nm)的曝光工具。 采用光波长为193nm的深紫外技术，其物理极限是100nm线宽的图形曝 光。当特征线宽的尺寸越来越接近这一物理极限，就需要新的曝光方法。从技 术角度，微米加工进入到纳米加工。 纳米加工是纳米科技中重要的一环，但传统光学光刻技术需利用更低波长 的光源，且搭配复杂周边系统，才能实现100