二维平板光子晶体直波导的制备和光传输特性的测量.pdfVIP

维普资讯 第 54卷 第 12期 2005年 12月 物 理 学 报 V01．54，No，12，December，2005 1000-3290／2005／54(12)．r5659．04 ACTA PHYSICA SINICA ⑥2005Chin．Phys．Soc． 二维平板光子晶体直波导的制备和 光传输特性的测量* 韩守振 田 洁 冯 帅 任 承 李志远 程丙英 张道中 (中国科学院物理研究所，北京 100080) (2005年 4月 19日收到；2005年6月 10日收到修改稿) 利用聚焦离子束刻蚀的方法在 SOI(silicononinsulat0r)基片上制备了W3型二维光子晶体直波导 ．观察并测量了 近红外激光通过光子晶体波导的散射图形和透过谱 ．实验结果说明，激光在有引入引出脊形波导的光子晶体直波 导中具有很好的传输特性． 关键词：光子晶体波导，光子带隙，脊型波导 PACe：4265K，4225B，4270Q 法刻蚀相结合而制成 ．应用这种方法虽然能够制备 1．引 言 大面积的光子晶体，但是需要经过数道程序才能完 成，从而难免导致光子晶体样品的各种参数出现误 二维平板式光子晶体是未来大规模高密度光子 差 ．聚焦离子束 (FIB)刻蚀方法是在样品的表面 “直 集成 回路的基础 ．利用光子晶体的点缺陷和线缺陷 接写出”光子晶体，既能缩短制备光子晶体的时间， 可以制成损耗很小的光子晶体直波导、弯波导、光子 又能够保证光子晶体的质量u ．因此，在制备小面 晶体滤波器、波分复用器等光子晶体器件[1 ．在平 积的平板光子晶体时，FIB方法更具有优越性．图 1 板上打孔的光子晶体中去掉一行圆孔而形成的光子 是我们用 FIB刻蚀方法制作W3型光子晶体直波导 晶体直波导称为WI型波导．光在这种波导中是 以 的扫描 电子显微镜照片 ．样 品的硅膜厚度为 0．22 单模传输的，从而成为人们研究最多的波导类型之 bsm，二氧化硅层的厚度为 0．375／lm．光子晶体是三 一 ． 但是W1型波导的宽度很窄，光耦合到波导的效 角晶格结构 ，晶格常数和圆孔 的半径分别是 0．42和 率很低 ，用其制成光子晶体器件还较困难 ．而在光子 0．12 m．为了提高光的耦合效率，在光子晶体波导 晶体 中去掉三行圆孔而形成的W3型光子晶体波导 的两端分别做 了用于光引入和引出的脊形波导．入 虽然在模拟计算中是允许多模传输 的，但可以大大 射光沿三角晶格的r-．，方向入射到光子晶体波导， 提高激光耦合到波导 中的效率 ¨’ ．而且利用 W1 在通光方 向样品的总宽度为 0．3mm．由图 1可以看 型波导能够实现的功能很多也能够用 W3型波导实