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38 蔡 匈:透明导电薄膜材料的研究
透明导电薄膜材料的研究+
——一——————————————————————————————————————————————————————————————————一
蔡殉,王振国
(上海交通大学教育部高温材料及高温测试重点实验室,上海200030)
摘要: 简述了透明导电薄膜材料的发展现况和趋 要就近年来研究比较活跃的TCO材料及金属基复合
势,特别是对目前研究比较活跃的透明导电氧化物 多层透明导电膜的发展态势及前景加以评述。一
(TCO)及金属基复合多层透明导电膜的研究动态,材
2氧化物透明导电薄膜(TCO)
料设计原理及其应用进行了重点介绍,并就透明导电
薄膜材料日前存在的问题及发展方向进行了分析讨 1
论。 室沉积氧化后的透明导电现象,也有文献E2]报道cd
关键词:透明导电性:氧化物透明导电膜;功函数; 氧化物的透明导电性是在1951年首次报道的。5年
相空间;复合多层膜
后相继有其它宽带氧化物半导体的透明导电性能报
告,并将其用于heated
透明导电薄膜不但要求好的导电性.还要有优良
用于减少钠灯热量损失。从20世纪60年代开始.
的可见光透光性。从物理学的角度,物质的透光性和
ITO作为主要的透明导电材料而广泛应用。
导电性是一对基本矛盾。为了使材料具有通常所述的
2。l二元及三元TCO材料的发展
导电性.就必须使其费米球的中心偏离动量空间原点,
也就是说,按照能带理论在费米球及附近的能级分布
Tt电
很密集,被电子占据的能级和空能级之间不存在能隙,
这样当彳『入射光进入时.很容易产生内光电效应,光由 阻率的优异电学性能,但由于其有毒,因此从环保角度
j1激发电子失掉能量而衰减。所以,从透光性的角度 其应用受到限制。这类透明导电膜都是通过半导体掺
不希望产生内光电效应.就要求禁带宽度必须大于光 杂贡献载流子来降低其电阻率。
r能量。宽带透明导电氧化物半导体.要保持良好的 ITO薄膜具有透光性好、电阻率低、易刻蚀和易低
r,r见光透光性,其等离子频率就要小于可见光频率,要 n/sq,
温制备等优点。典型的ITO膜的方阻约为10
保持一定的导电胜就需要一定的载流子浓度,而等离 4n·cm数量级上,可见光的
或者其电阻率在1×10
子频率与载流子浓度成比例。透明导电膜的开发就是 透射率80%。但这样的方阻难以适应未来大屏幕平
蓬于如何使二昔更好的有机统一起来。自从在透明导 面显示器的要求,虽然增加膜厚可以降低其方阻,但会
电氧化物(’ICO)中第一次发现透光性与导电性可以共
导致对一定波段光吸收。困ITO的带宽只有2.6eV,
存后.新型7ICO的开发及复合多层膜的设计都是围绕
在蓝绿光波段,带问吸收起主导作用。美崮A,II、
着这样一对矛盾
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