（重点）电池片主流设备.docVIP

本文将从晶体硅太阳电池生产工艺流程（图一）中所涉及到的影响太阳能电池光电转换效率的清洗制绒设备、扩散设备、刻蚀设备、去磷硅玻璃设备(去PSG)、镀减反射膜（PECVD）设备、印刷电极设备、烘干烧结设备、测试分选设备等典型企业进行阐述。 ?????????? 图一 晶体硅太阳电池生产工艺流程 清洗制绒就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过强酸和强碱腐蚀，使其凸凹不平，变得粗糙，形成漫反射，减少直射到硅片表面的太阳能的损失。相关设备有德国RENA这些设备中最好的是RENA，因为他不光卖设备，还卖制绒工艺的专利。所使用的介质有HF，HCL，HNO3，NaOH，Na2SiO3和乙醇等。动力源有自来水，纯水，压缩空气，氮气，工艺冷却水，废水，热排风和酸排风。48所、七星华创 多晶硅：德国RENAGebr. Schmid 扩散的目的在于形成PN结。硅片含硼，是P型结物质，需要往里面掺杂磷，使电子发生移动，形成PN结空穴。所使用的介质有POCL3，N2，O2。动力源有压缩空气，氮气，工艺冷却水，热排风和有机排风。使用的设备是高温扩散炉，厂商有SVCS，TEMPRESS，长沙48所等。该道工艺有洁净要求，需要在洁净室内运行。因为扩散炉内的石英管需要清洗，所以需要增加一种石英管清洗机。TEMPRESS、德国CT、48所、捷佳创、七星、赛瑞达、大族 刻蚀的目的在于把硅片的边缘PN结断开，防止短路。目前国内所使用的设备几乎都是长沙48所的。动力源有CF4，N2，NH3，热排风，有机排风。48所，捷佳创、武汉三工、中科院微电子研究所、北京七星华创； 激光刻蚀—德国Rofin ； 湿法刻蚀—RENA、kuttler 去磷硅玻璃(去PSG)的目的在于洗去扩散时形成的磷硅玻璃，即SiO2和 P2O5的混合物，所以扩散后清洗机又叫做去磷硅玻璃清洗机。动力源有氮气，压缩空气，纯水.HF，热排风，酸排风，废水等。48所、七星华创 多晶硅：德国RENAGebr. Schmid PECVD的目的在于镀氮化硅薄膜，增加折射率，同时掺杂H元素，使缺陷减少，还可以保护硅片。所用设备有德国的ROTHRA平板式PECVD设备，还有CENTROTHERMO的管式PECVD设备。动力源有SiH4，NH3，氮气，压缩空气，工艺冷却水，热排风，硅烷排风等。Centrotherm，七星华创，48所， 捷佳创； 平板炉：Schmid，北方微电子，周星，Shimadzu（岛津），Tempress 丝网印刷的目的在于印刷导电电极。先印背面，再印正面。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的BACCINI印刷线。动力源有真空，压缩空气，热排风，有机排风等。意大利BACCINIASYS GmbH、英国DEK Solar、瑞士HCT、德国JRT Photovoltaics、德国Manz Automation、荷兰OTB Solar、45所 烧结的目的是把电极烧结在PN结上。高温烧结可以使电极穿透氮化硅膜，形成合金。所用设备有美国DESPACH等。动力源有压缩空气，工艺冷却水，热排风，有机排风等。美国DESPACHBTU、Centrotherm 分类检测的目的在于把电池片按照效率进行分类。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的BACCINI检测仪。动力源有真空，压缩空气。意大利BACCINIBerger Lichttechnik、德国ASYS GmbH 最后一道工艺就是热塑包装。