用暗m线法测量YIG磁光薄膜的折射率和厚度.pdfVIP

维普资讯 第26卷第3期 磁 性 材 料 及 器 件 J．Magn．Mater．Device 1995生8月 用暗 m线法测量 YIG磁光薄膜的折射率和厚度 ⑨ 旦旦至 笪垩堑 (华 中理工大学固体 电子学系) 6 一 摘 要 ：本文采用暗m线法．通过测量棱镜耦合器底面反射光斑中的模式吸收线的位置， 来计算 YIG裢光薄膜的折射率和厚度 ．此方法特点是只需将光耦台进磁光薄膜而不考虑薄膜本身 的光损耗 ，因此它既可测量透明薄膜的参数也可裰l量非透 明薄膜的参数。在实验中，我们测的YIG 磁光薄膜 的折射率为2．297，厚度为3．03m 关键词：YIG磁光薄膜 棱镜耦告 参数测量 — — — — — — 2 ·^r s t — 用波 长 为 633nm 氦 一氖激 光器，功率 为 l 前 言 5row ，光束通过扩束系统后 由物镜聚焦到等 腰金红石棱镜底部，待测样品和棱镜用一耦 近年来液相外延磁光薄膜在集成光学领 合夹具固定在圆盘上 当物镜将光束聚成锥 域 内获得越来越广泛的应用 “]。为了制作器 形光束入射 到棱镜与薄膜 的接触点上 ，那些 件的需要，必须精确地测量磁光薄膜的折射 处于耦台角的光束将进入波导形成导模，而 率和厚度。测试这两个参数的方法通常有分 不符合耦合角的光束 由棱镜底部反射，因此 光光度法 、椭 圆偏振法0、光学干涉法0和 在光屏幕上将出现一系列对应模式的暗线。 棱镜耦合法 “，其中棱镜耦合法测量精度最 当光 以导模方式在薄膜 中传输时，满足如下 高。由于钇铁石榴石系列磁光膜的光窗波长 波导模式特征方程： 范围在l~5z／m，测量一般是在不可见的近红 2Kh( 一 Ⅳ：) 一 2 2— 2 ¨一 2ran 外波长下进行 ，这给光路的调试带来了许多 (1) 不便之处。为此，本文通过测量棱镜底面反射 【— arctg{(n1／n2) [(Ⅳ 一 ；) 光斑中模式的吸收谱的位置来确定薄膜的折 ／(n；一Ⅳ：)]“) (2) 射率和厚度，使得它能在可见光下测量薄膜 l3一arctg{(l／n) [(Ⅳ 一n；) 。 的折射率和厚度而不受薄膜本身是否透 明的 ／(n}一ND3“) (3) 影响，因此此方法具有更广泛的实用性 。 式中，n 分别为空气、薄膜 、村底的折 2 测量原理 射率 ；m一0，1，2，…是模式阶数}对 TE模， 一 0，对TM膜 日一 1；^为波导层厚度 ； 为 如图1所示为暗 111线测试装置 ，光源采 真空中的传输常数 Ⅳ 为 阶导模的有效折 收{毫日期：1994年9月25日