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用暗m线法测量YIG磁光薄膜的折射率和厚度.pdf
维普资讯
第26卷第3期 磁 性 材 料 及 器 件 J.Magn.Mater.Device 1995生8月
用暗 m线法测量 YIG磁光薄膜的折射率和厚度
⑨ 旦旦至 笪垩堑
(华 中理工大学固体 电子学系)
6 一
摘 要 :本文采用暗m线法.通过测量棱镜耦合器底面反射光斑中的模式吸收线的位置,
来计算 YIG裢光薄膜的折射率和厚度 .此方法特点是只需将光耦台进磁光薄膜而不考虑薄膜本身
的光损耗 ,因此它既可测量透明薄膜的参数也可裰l量非透 明薄膜的参数。在实验中,我们测的YIG
磁光薄膜 的折射率为2.297,厚度为3.03m
关键词:YIG磁光薄膜 棱镜耦告 参数测量
— — — — — —
2 ·^r
s t —
用波 长 为 633nm 氦 一氖激 光器,功率 为
l 前 言 5row ,光束通过扩束系统后 由物镜聚焦到等
腰金红石棱镜底部,待测样品和棱镜用一耦
近年来液相外延磁光薄膜在集成光学领 合夹具固定在圆盘上 当物镜将光束聚成锥
域 内获得越来越广泛的应用 “]。为了制作器 形光束入射 到棱镜与薄膜 的接触点上 ,那些
件的需要,必须精确地测量磁光薄膜的折射 处于耦台角的光束将进入波导形成导模,而
率和厚度。测试这两个参数的方法通常有分 不符合耦合角的光束 由棱镜底部反射,因此
光光度法 、椭 圆偏振法0、光学干涉法0和 在光屏幕上将出现一系列对应模式的暗线。
棱镜耦合法 “,其中棱镜耦合法测量精度最 当光 以导模方式在薄膜 中传输时,满足如下
高。由于钇铁石榴石系列磁光膜的光窗波长 波导模式特征方程:
范围在l~5z/m,测量一般是在不可见的近红 2Kh( 一 Ⅳ:) 一 2 2— 2 ¨一 2ran
外波长下进行 ,这给光路的调试带来了许多 (1)
不便之处。为此,本文通过测量棱镜底面反射 【— arctg{(n1/n2) [(Ⅳ 一 ;)
光斑中模式的吸收谱的位置来确定薄膜的折 /(n;一Ⅳ:)]“) (2)
射率和厚度,使得它能在可见光下测量薄膜 l3一arctg{(l/n) [(Ⅳ 一n;) 。
的折射率和厚度而不受薄膜本身是否透 明的 /(n}一ND3“) (3)
影响,因此此方法具有更广泛的实用性 。 式中,n 分别为空气、薄膜 、村底的折
2 测量原理 射率 ;m一0,1,2,…是模式阶数}对 TE模,
一 0,对TM膜 日一 1;^为波导层厚度 ; 为
如图1所示为暗 111线测试装置 ,光源采 真空中的传输常数 Ⅳ 为 阶导模的有效折
收{毫日期:1994年9月25日
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