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一.真空鍍膜技術介紹 二.鎂合金采用的PVD技術 三.鎂合金PVD制程開發 四.鎂合金PVD開發現狀 五.應用 一.真空鍍膜技術介紹 PVD技術介紹 二.鎂合金采用的PVD技術 三.鎂合金PVD開發制程 1.要求PVD底漆具有优良的流平性,噴涂無橘皮.同時具有良好的填充性,附著性. 2.要求PVD面漆与PVD膜層有良好的配套性,同時具有优异的物理化學性能. 3.對PVD底漆層和PVD膜層要有良好的包裝保護,不能有任何贓污和損傷. 4.涂裝時上下治具必須有良好的保護,不能有任何的贓污和損傷. 5.對素材的要求比烤漆更加嚴格. 6.對素材的結构提出了新的要求. 四.鎂合金PVD開發現狀 鎂合金濺射鍍膜 鍍膜種類﹕鈦和不鏽鋼 PVD膜層與与UV面漆的配套性好,有良好的附著性和硬度,但面漆的耐鹽霧性耐UV性和耐磨性較差。 PVD膜層與PU漆或高溫烤漆配套性差,容易產生龜裂。 鎂合金離子鍍膜 五.應用-- 鎂合金外觀金屬化 1.手機上應用 N公司M机种打樣 2.NOTEBOOK上應用 D公司A机种上打樣. * 大綱 真空镀膜分为物理气相沉积，即PVD (physical vapor deposition)和化学气相沉积CVD (chemical vapor deposition), PVD又分为： CVD又分为： 1.蒸发镀膜； 1.常压CVD， 2.离子镀膜； 2.低压CVD， 3.溅射镀膜。 3.等离子体CVD 4.其它CVD。 按功能要求也可区分为： 1.装饰性镀膜； 2.功能性镀膜。 蒸發鍍膜--真空室中加熱某種待形成薄膜的材料，使其原子或分子氣化形成氣流，在飛向固體表面沉積成薄膜. 濺射鍍膜--用被加速的離子去轟擊待形成薄膜的固體表面，使固體表面的原子或分子從表面濺射出來再入射到基板表面沉積形成薄膜. 離子鍍膜--在真空條件下，使氣體或被蒸發物質電離，並在電場作用下加速飛向基片沉積成膜. 1.鍍白鉻---离子鍍膜 2.鍍鈦---濺射鍍膜 3.鍍不鏽鋼---濺射鍍膜 4.鍍鋁---蒸發鍍膜 底漆I PVD 補土研磨 底漆II PVD 底漆 化成 PVD 面漆 1.工藝流程 2.制程要求 鍍膜種類﹕鉻 PVD膜層與PU漆或高溫烤漆配套性好,有良好的附著性,但面漆的耐磨性和耐UV性差,而且膜層容易產生霧和發彩。 PVD膜層與UV面漆的配套性差,容易出現附著性不良。 *
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