光学膜层激光预处理过程的研究.pdfVIP

光学膜层激光预处理过程研究 蒋晓东卓志云卓东雷黄祖鑫 (中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四JI J绵阳919～988信箱621900) 摘要光学元件经过激光预处理后，其抗激光破坏能力强大提高2倍以上，系统研究激光预处 理机理和工艺，能安全町靠地提高光学元件损伤闽值，提升高功率激光系统的能量密度。工作 研究了几种sol-gel膜、PVD膜在预处理前后膜层表面的变化(损伤形貌)．损伤闻值的增幅， 发现预处理过程膜层仍然发生了一定程度的轻微损伤，这种损伤和膜层本身缺陷、檄光参数密 切相关，证实预处理过程是膜层缺陷的逐步消除过程。 关健诃：光学膜层激光预处理损伤形貌 在高功率激光装置的建立中，光学元件的损伤闽值(抗激光损伤能力)限制是一个主 要瓶颈，在目前的技术水平和经费状况下，通过改进光学元件加工(如镀膜)工艺和增加 口径来提高激光系统的负载能力是非常难的，对部分光学元件中，激光预处理是一种有效 的提高激光损伤阈值的方法，国外有关研究证明．通过预处理的光学元件其损伤阈值可提 高达两到三倍【1】，国内目前还未对此进行系统的研究。在目前光学元件镀膜工艺的限制下， 采用激光预处理方法提高损伤闽值的前提是对预处理机理有足够的认识和了解，使激光预 处理工艺在效果和费用上达到最优化，以适合大批量作业。 1 实验原理 激光预处理过程是用强度逐渐增加的激光对待处理光学元件进行多次辐照，以提高其 激光损伤阈值，要达到好的效果，必须精密控制激光的能量增幅和时间间隔，而且需要很 多次照射(最多可达几百次)，这使预处理较大口径的光学元件成为耗费很高的工作。目前 国际流行的激光预处理机理之一是缺陷清除机制∞朋．缺陷是相同类型光学膜层损伤的主要 因素，这种缺陷是以一定的几率密度分布在光学元件表面，减少和消除缺陷就可提高元件 的损伤阈值。降低损伤几率的方法只能通过降低膜层的缺陷(在镀膜阶段)或逐步减小和 消除缺陷(在预处理过程)来达到。预处理过程可使缺陷逐渐消失形成稳定、轻微的损伤， 避免缺陷被激光瞬间引发而使膜层发生大面积损坏。工作中对镀不同类型膜层的光学元件 的损伤阚值进行了测量。研究了损伤及预处理后光学膜层的形貌．并对其性质和产生原因 进行了分析。鉴于此目的，开展以下两方面的实验，首先，研究了损伤对光学性能的影响(如 透射反射率的损失)可咀决定损害的有效尺寸或形貌．其次，研究了不同损伤在一定能流 的激光连续照射下的稳定性，同时分析了影响激光预处理效果的各种因素．以探讨科学台 理光学元件预处理工艺及方法。 1．1 实验装置及器件 图l是实验装置图，实验中使用Nd：YAG，单横单纵模调0激光器，输出激光为1．064／am 的近高斯光束，脉宽约5ns，输出单脉冲能量最太800mJ．光斑直径约8m。预处理时采用 f=800mm的透镜将激光缩束，本系统采用hpplo微能量卡计，它具有实时测量能力；用快光 学CCD记录激光在靶面及近焦处的光斑直径和能量的空间分布。膜层表面形貌及膜层缺陷 的检测采用了多种方法，包括相衬生物显微镜、暗场显微镜、原子力显微镜等，还用高精 度透射仪检验膜层在实验前后透射率的变化。用于实验的光学元件分别镀有两种PvD膜以 及∞l-gel膜。 ．．375．． 图1激光损伤测量装置示意图 A靶面激光能量空间分布测量：B、C分别为激光能量和脉宽测量 1．2 损伤闷值的测量及激光预处理效应的检验 实验中的损伤阚值测量方式采用Ion1的形式．即将实验能量分段，每段能量辐射10 个不同点，根据各能量段的损伤几率与能量做图，反推至零损伤几率时的能量密度即为该 元件的损伤阙值。损伤测量用的激光束径为0．6mm。 Oil 预处理过程采用N 1的方式，在每一点以低于损伤阈值一半的能量开始．逐渐增加 能量辐照同一点．直到损坏为止，记录最大不损坏能量和损伤能量．进行多点测量，并改 变能量增幅进行实验，激光束径为]．2ram。为便于实验对比．损伤检验和预处理实验在同 一块元件上。 2 结果与分析 2．1 光学膜层的损伤及形貌