T-%2c2-O-%2c5-薄膜光波导的研究.pdfVIP

36 压电与声光 2001年增刊 文章编号；1004—2474(2001)S0-0136-03 T205薄膜光波导研究 2 F．de WilfrledNico 李永红1。2，Noell 2， Rooij (1华北工学院微米纳米技术研究中心，太原030051；2瑞士纳沙泰尔大学徽技术学院，纳沙搴尔CH2007) 摘要：综合介绍了Ta：0t的特性以及在微电子、光学MEMS等领域的应用．根据作者的研究，设计、仿真与加工， 介绍了TazO，薄膜先波导的结构、加工工艺以及部分结果等． 关键词：光学微电子机械系统(MOEMS)；Ta】v5，0；薄膜光波导 中图分类号：TM282文献标识码：A TheResearchon Ta20sWaveguides LI Rde Yong．hon91”，NoellWilfried2，NieoRooij2 (1NoahChinaInstitute and 030051，China；2．Sensors，ActuatorsMicrosystemsLaboratory,Institute ofTechnolog弘Taiyuan ofMicrotechnology， 1 Unive“ityofNeuchatel．RueJaquet．DrozCH2007，Switzerland) Abstract：The areviewsummarizationandtheirresearchaboutdifferentandits features paperpresents Ta205 incoming ondifferent Theauthorsalso their ofresearchaboutdifferentfilm depending processes give parts Ta205waveguidges， and constructionsetc includingofdesign，simulations，processes Keywords：Ta20s；waveguides；MOEMS；MEMS 1概述 PECVD、ALD(Atomic．Layer 淀积、溅射、蒸镀、电镀等。大部分典型的溅射淀积 Ta：o，由于其独特的材料特性：高电介常数 金属膜都由于拉应力，有时甚至超过其屈服强度，而 000 (s，≈20～35)、大的折射系数(2=300～2nm时，大 产生断裂。因此退火工艺在Ta20，的加工处理中很重 约2．37～2．05)与低的光学吸收特性以及优良的微电 要。图1