钴铬垂直磁化膜的高分辨显微学的研究.pdfVIP

钴铬垂直磁化膜的高分辨显微学研究 潘国宏，张小平，孙允希，王勤堂，孙玉秀 (北京大学物理系微电子所．北京100871) 摘要：钴螺薄腱是垂直磁化薄膜的基本品种． 析．婶单畴颗粒形成的惦界足寸作7估算，都秤 固内外研究多限于宏现洲试和某些典型的微观分 到与实验很好符合的蛄果． 析．蛄晶结构删认为是非磁络在磁性诂晶粒间界 关键词：垂直磁化薄膜l磁化强度；结晶结构； 析出隔离形成怙单畴藏杜的现点．时薄膜姑晶蛄 磁畴结构：徽磁学 构与磁畴蛄构：I∈幕及其机理的高分辨显微学研究 刖极少见．本走正是耙高分辨透射电兢、能谱分 1实验结果 析、原干力丑微镜AFM和磁力正擞兢MFM等 方法蛄合起来对薄膜的晶拉蛄构和尺寸，成分分 用振动样品磁强计VSM及x射线薄膜磁化 布，磁畴蛄柏和尺寸厦单畴颗枉形成机理等问 强度取向摆动曲线的△口，。对电子柬燕镀咕铬垂 题．着重从高分辨显微学及微磁学理论深入研 直磁化薄