TiAl渗硅层形成机理地研究.pdfVIP

第八次全国热处理大会论文集(2003年5月北京) TiAI渗硅层形成机理的研究 马晓霞 梁伟 赵兴国 石巨岩 边丽萍 (太原理工大学材料科学与工程学院，太原030024) 组Ti．48A1试样进行了组织观察和结构分析。实验结果表明：在这两组试样表面均形成～复合渗层。外层为连续致密的 断渗层中的A1203是由基体中的Al原子与气氛和基体中的残余O反应所形成的。 关键词：TiAI基台金：化学热处理：渗si：显微组织 X 抗高温氧化性能仍制约着TiAI基合金的实际应用。通过近些年的研究，室温塑性和韧性已经得到了明显的改善f】J， 如何有效地提高其抗高温氧化性能显得日益重要。在提高TiAl基合金抗高温抗氧化性能方面主要有两类方法：1) 性。为此，表面处理被认为是一种能够提高该类合金抗氧化性能的有效方法。表面处理包括离子注A．tK…，表面 研究。 1实验方法 SIGMA 渗si处理。渗层组织观察和结