纳米SiO-%2c2-粉体的制备和研究.pdfVIP

——————————————————————————————————————————————————二二—±=二二==………7l’……… 三旦———————————————————一 !!!!兰塑丝塑竺型鱼皇堇查窒旦41堕全 纳米SiO：粉体的制备与研究 童忠良 (中国科学院研究生院100039) 摘要纳米SiO：粉体的制各是以硅酸钠和盐酸为原料，添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂，在适宜 的pH值和温度下，采用化学沉淀法合成。要得到性能优良纳米的SiO：粉体，最佳工艺条件为：温度20．-．40。C，pH6， 反应液质量浓度P1209FL，P21 分散性好，质量优良，可达到产业化的生产。 关键词化学沉淀法si。2粉体印纳米材料工艺条件 1．引言 纳米SiO：粉末是一种新型轻质纳米孔材料，它具有密度低、比表面积高，孔洞率高等特点， 在橡胶、农药、造纸、油墨、塑料加工等行业具有广泛的应用前景【12”。因而近几年来引起了广大 科技工作者的关注。目前，制备纳米二氧化硅颗粒的方法有Sicl。气相水解法(气相法白碳黑)，极 性有机溶剂与碱金属硅酸盐反胶束