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可控等离子加速蒸发弧源沉积CoCrAIY合金涂层研究
江两省机械科学研究所(330002)张海军
摘要根据毕奥萨伐尔定律设计磁感应强度B》5000GS的可控等离子加谴蒸发器(弧瓣1．圆管状蒸发器端面排列妇’r，鬯芦≯
线圈蕊束集中性好、等离子束流沉积速率大为提高沉积c。CrAIY合金涂层厚度≥o03ram，根据实际应用要求，可以沉积二h叫T’奠’
的CoCrAIY合金涂层．
关键词 可控等离子加速蒸发器(孤源)沉积速率CoCrAIY多元舍空涂层滑动线图
l引言 试验用二种壮利：iD镍基高温合金
多元台金涂层技术作为薄膜材料科学钡域项高技术，，1t ②W18Cr4V，W9M03Cr4V
前苏联、美国、德国的航卒、航海、电力1．业部门获得推广应 磁场强度嘣节：直径中190ram线蹦可沿弧束x轴正方向运
用有关报道后，国内为数不多的嗨位在多元合金滁堪拄术研究
动柬调节磁场强度。
方面做了些有益的尝试，虽说起步表现锦相对滞后丁目外技
术，形成多元台金涂层生产能力的儿乎没有，但有关多元台命
涂瑶I‘艺技术(多元合参涂膨成份多元化、涂层深度、涂层衄
度、涂层结合力、涂层耐磨酣腐蚀等r艺性能)d问突破陆山
向发屉。目前．我们采用可控等离子加速弧滁0‘枞cocrAlY合
仓涂鹾做了部分实验研究r作．本文就多元合金涂层部分实验
台金璀材CoCrAIy涂层离子沉翘州问30～60分钟．
研究结果略作半日浅表述．渴望能起到抛砖引玉作川。
W18Cr4V，WgM03Cr4V基材CoCrAIY滁层离子沉积州M20一～
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涂层．显得尤为重要的是等离子体的速度，等离于体速度的快
慢直接影响涂层质量，蚓为离子状态是在真窄放电下产生的，
所以人们仂求做到从离产状态转化到等离子状态，提高沉积速
率成为自r控等离子加述蒸旋弧源技术的关键，可控等离子加速
蒸发器蒸发CoCrAIY合金涂崩磁场的设计充分考虑到这一-技术
l豳 要求．本质L埘CoCrAIY台金涂坛；沉积速率快的特点作了解
释rBY一1
5 6离了镀实验装置卜，，叮挣等离f加速蒸发器圆管状器
硅材：u、CM03Cr4V
CoCrAIY台金溶层厚J
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