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CeEu(,2x)O(,2%2bδ)固溶体的高温高压合成和XPS研究.pdfVIP

CeEu(,2x)O(,2%2bδ)固溶体的高温高压合成和XPS研究.pdf

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V01.13,su耐. 箨努拳。。填刊 。研N匹。。§l取压器怒,产品热琅。,H码。瞄 Oct.,1999 CeEu:,02十s固溶体的高温 高压合成及XPS研究★ 车裕禄-李莉萍1苗继鹏1苏文辉“2 (1.吉林大学物理系和元机台成与制备化学开放实验室,长春130023) 5) (2.中国科学院国际材料物理中心,沈阳】100l 摘要在3.4G|3a和840 有固溶体均为萤石结构。XPS测量给出nl离于在固溶体中为+3价;随Bu含量的增加,Ce3d谱上 的926eV娃的光电子峰的强度下降,说明样品中有少量的ce抖产生。讨论了Eu3+和(≯+在固溶 体合成过程中的变价行为。 关键词&勘。n+s固溶体高温高压合成XPS l引言 近年来人们在对z如基电解质进行了广泛研究的基础上,也对新型Biz03和【=c(^基电解 质进行了合成和物理性质的研究。结果发现,稀上离子虽可以稳定立方或四方z“b,但稀土离 子的掺杂要受zrq晶格尺寸的限制;而BIzOs基电解质只适用于较低的温度。掺杂的&q是 一个很有希望的电解质材料,吸引了人们的广泛关注。对Cea02不但进行了二价离子ca、sr的 掺杂研究,还进行了稀土Sm、Gd、Y等的掺杂研究“~“。在这些研究中t样品的台成采用的方法 是常压高温陶瓷法、溶胶凝胶法和水热法,而采只l高温高压方法合成ce嘎基电解质材料未见 报道。文献[4,5]曾利用高温高压方法成功地合成了&&q+a固溶体。本文利用高温高压方法 合成有nl掺杂的Q02系列电解质.利用XPS方法测量旺和Eu离子的价态。 2实验 后,装A高压组装件内,进行高压高温合成,高压高温合成是在两面顶环带式压机上进行的。首 先缓慢升压达3.4GPa,随后升温至840℃,保压保温30min后,淬火至室温卸压。 利用RigrakuD/max—rA型转靶Xray衍射仪对昕得的粉末样品进行测试,CrK:辐射,测量 LAB 步宽0.05。,采集时间ls。XPS测试采用英国v(j公司的ESCA MKⅡ型多功能光电子能 谱仪。测量真空度为10-7Pa,荷电位校准取cl,=284.6eV。 3结果与讨论 图1为所合成样品的XRD谱网。可见样品基本为单相,属萤石结构.当Eu含量高于0.4 时,有极少量的杂相。 ★国家自然科学基金(批准号19LR04005,资助项目 1 增刊 车裕禄等:CeEu2zq+。固溶体的高温高压合成及XPS研究 众所周知t高温高压可以改变离子的价态”1…。为了研究所合成固溶体中离子的价态,我们 格氧;高结合能(~531.5ev)的光电子峰为吸附氧。吸附氧由两部分贡献:一是来自样品表面 的水、()晚等贡献,另一个是与样品中缺陷有关。研究表明氧缺位量越高.吸附氧的强度越 强口一。当Eu古量增加时,高结合能端的光电子峰强度增加,说明样品中氧缺位增加。 图1样品睡Bl:ft+a的XRD潜图 图2 样品CeEu:川02的O·,内壳层光电子峰 ofthe GeEu 0f n晷l1kXRDpauernssamples2』X+6 Fl母2q,pm州ccⅡ0npeaksthe鼬mples&Eu2n+a 在实验测得的Eu;。谱上存在两个光电子峰,它们分别对应Eut《,,和Eu屿∥如图3所示。 35eV和~140.5eV 含Eu的化合物的XPS研究表明“j,Fu”离子的d高/z和4画/z分别位于~l Eu“谱图的低结合能端未观察到光电子峰,而且4建一。和4凼n两峰的间距为5.6eV。这说明Eu 离子

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