国产无蜡抛光垫制备--对涂布工艺地研究.pdfVIP

国产无蜡抛光垫制备一对涂布工艺的研究 孙振华王皎瑜李扶利王维平张云波刘强 (天津市半导体技术研究所 天津：1000．61) 无蜡抛光姒它的优越性得到广泛的应用，但随着工艺及技术的发展，对蜡抛光提出更高 高的标准，因而对制备无蜡抛光垫的工艺提出丁更严格的夏求 下面就制备抛光垫工艺中关 键问题做一探讨 无蜡抛光垫主体一聚氯酯薄膜的形成是无蜡抛光制备工艺中最关键的同题．我们生产的 的聚氨醋薄膜是采用湿法涂布，率方法在形成一定厚度的薄膜时，会受到原料的分子量、硬 度．浓度．牯度等诸多因衰的影响，所以对豫布工艺中有关问题做一详细论述．聚合物形成 薄膜关键是徽孔结构的形成，从理论上讲如何在耜转化这一过程中，包括双组份或多组份的 液体均相聚舍物溶液转变为两相体系即固相一形成刚性膜结构的富聚合物和渡相一形成族孔 的贫聚合物．任何聚台物均可得到相分离．在一定温度和组份下，分离成两相为得到象膜一 样徽孔体，两相都要连贯而液相不连