化学镀铁基软磁性薄膜地研究.pdfVIP

化学镀铁基软磁性薄膜的研究 王玲玲赵立华黄桂芳袁小俭张邦维 (湖南大学应用物理系， 长沙410082) 摘要：利用化学沉积方法制备了Fe．TM_BCnd=Fe，w，Mo，Sn，Mo．w)以及Ni-l’q． P(TN=F岛Fe-B)软磁性薄膜，实验结果与已报道的Fe．P，Ni．Fe．P(B)化学膜进行了比 较。以下实验结果被发现：软磁膜的磁性参数it(u日)，Ms，Hc，Mr／Ms敏感于成份，但不 困成分改变产生大幅度的变化．所研制Ni-Fe-P及Ni．Fc-P-B软磁膜的Hc略高于已报道 的NI．Fe-P膜， 比Ni·Fe-B膜的Hc约高一个数量级；明显低于Fe-B(P),Fe-W(Mo,Sn． Mo·w卜B膜的值；通过Fe-B二元台金镀层的多元化并不改善其u f』“B)值：Mr／Mg 低于Fe-P， Ni．Fe-B膜的值： 除元素sn外，均引起Mr／Ms较大幅度提高．除元素w 外．均导致H