均匀软X射线多层膜制备方法研究.pdfVIP

　第 15 卷 　第 5 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 15 ,No. 5 　 　2003 年 5 月 HIGH POWER LASER AND PARTICL E BEAMS May ,2003 　 文章编号 (2003) 均匀软 X 射线多层膜制备方法研究 金春水 , 　林 　强 , 　马月英 , 　裴 　舒 , 　曹健林 ( 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130022) 　　摘 　要 : 　介绍了基于速度调制技术的均匀软 X 射线多层膜制备方法 ,并采用该方法在直径为 150mm 的 平面硅基板上制备出 Mo/ Si 多层膜 ,其中心波长为 13. 5nm ,膜厚空间非均匀性优于 1 % ,较转盘匀速溅射方法 制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近 6 倍。 　　关键词 : 　软 X 射线 ; 多层膜 ; 磁控溅射 ; 均匀性 　　中图分类号 :O434. 14 　　　　文献标识码 :A 　　随着光学超精密加工与检测技术、超薄膜制备技术和微制造技术的发展 ,近二十年来 ,软 X 射线光学取得 了飞速发展 ,尤其是软 X 射线多层膜技术 ,它是软 X 射线光学中最重要的关键技术之一。它的发展促进了软 X 射线光学在 X 射线天文观测[1 ] 、显微术[2 ] 、极紫外投影光刻技术[3 ] 、X 射线激光研究[4 ]及 ICF (惯性约束核聚 变) [5 ]等领域的应用。 ( ) 　　在软 X 射线波段 1～30nm ,任何材料的折射率均接近 1 ,而且吸收大 ,无法组成透射式光学系统 ; 同时 , 单界面正入射反射率几乎为零 ,正入射软 X 射线成像光学系统只能由镀有软 X 射线多层膜的反射镜构成。该 系统为了达到近衍射极限的分辨率 ,要求其系统波像差为工作波长的若干分之一。在系统波像差的构成中 ,除 光学系统的设计残差、光学系统装调误差和多层膜反射镜原始面形加工误差外 ,软 X 射线多层膜的非均匀性 是构成系统波像差的重要组成部分。 　　目前 ,普遍使用挡板补偿技术控制多层膜的均匀性。它是将特殊制作的补偿板置于被镀元件与镀膜材料 之间 , 以补偿多层膜周期厚度的空间不均匀性。美国的劳伦斯·利弗莫尔实验室和A T T 贝尔实验室的研究 人员采用此项技术制备了用于极紫外投影光刻系统、中心波长为 13. 5nm 的 Mo/ Si 多层膜 ,其周期厚度均匀性 为 ±0. 05nm[6 ] ,但是需根据光学元件制作特定的补偿板 ,缺少通用性 ,工艺复杂。本文介绍了基于速度调制技 术的均匀软 X 射线多层膜制备方法[7 ] ,并在 150mm 的硅片上完成了大口径均匀软 X 射线多层膜的制备。检 测结果表面 :对于峰值波长为 13. 5nm 、周期厚度为 6. 95nm 的 Mo/ Si 多层膜 ,膜厚空间分布非均匀性优于 1 % ( PV) 。 1 　软 X 射线成像光学系统对多层膜均匀性的要求 　　在软 X 射线成像光学系统中 ,多层膜引入的系统波像差产生于两种反射波面相移 :一种是通光口径内多 层膜膜厚空间分布非均匀性引入反射镜面形误差导致的反射波面相移 ;另一种产生于多层膜对软 X 射线的反 射。多层膜反射镜通光口径内多层膜周期厚度非均匀性引起的相位变化可表示为 Δ π Δ λ ( ) = 4 N d/ 1 Δφ Δ λ 式中 : 为相位变化 , N 为镀制的多层膜对数 , d 为通光口径内的多层膜周期厚度变化 ,