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浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究.pdf

第35卷第5期 玻璃与搪瓷 V01.35No.5 2007年10月 GLASS&ENAMEL 0ct.2007 浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究’ 陆平”,程金树…,刘清 (武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室。武汉430070) 摘要:根据实验样品的成分,制定一定的浮法成型的温度制度,采用自制小型石墨锡槽,模拟硼硅 酸盐玻璃的浮法成型过程,用电子探针结合能谱仪,测试浮法硼硅酸盐玻璃在l250~650℃温 度范围内不同温度段下表面渗锡的分布情况,研究硼硅酸盐玻璃不同于传统钠钙硅浮法玻璃的 渗锡特点。研究结果表明,在特定的浮法工艺制度下,硼硅酸盐玻璃渗锡的深度达到40斗m左 右,并且高温段锡离子以纵向深度扩散为主,低温下锡离子主要在玻璃的近表面富集。在浮法成 型的过程中,渗锡的分布曲线土会出现卫星峰,但是最终在出锡槽的温度下渗锈曲线是单调递减 的。 关键词:浮法硼硅酸盐玻璃;渗锡;电子探针;扩散系数 文献标识码:A 中图分类号:1Q171.72+l into onTinPenetrationBottom Study SurfaceofFloatBorosiIicateGlass LU Qhg P讯g.cHENG|讥一sh,uU Dfsilic毗e^量耻edakscience明d 0f Educabon (KeyLab。mtory En西fmdIlgMinis时。f wuh明ullive舟竹0fTechnolo甜,wLlh蚰430070,china) a dnbathtosimulatetheⅡoat ofⅡoatbo∞silicate Absh.act:U mini一伊aphjte proces3 singspecm froml 250℃t0650℃were3tudied dn indj&rent area by —ass,t}lepene呐tjonpri06le8 temperacure wasfoundthatt曲diⅡhsedint0山eborosilicatewi山atotd 0f EPMA/EDs.It out dass dep【Il40斗m. Tini叩dl肌sedtowardsthe inthe underthe a11d deeper工ayerbomsilicate出sshighertempemtureollly 10wer InthewholeⅡoat enteredthe under山e layer Processes,tlle虹n 8“pe而cial tempemture. showedatjn t}letin att|le atoudet0fdn disappeared

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