薄膜物理-CH3溅射镀膜.ppt

溅射的基本原理——溅射机理 （3） 热钉扎溅射 反冲原子的密度非常高，以至于在一定的区域内大部分原子都在运动。热钉扎溅射通常是由中等能量的重离子轰击固体表面而造成的。 热钉扎线性碰撞级联溅射示意图 溅射的基本原理——溅射机理 入射离子的能量损失可以分为两部分：一部分用于靶原子核的反冲运动，另一部分用于激发或电离靶原子核外的电子，分别对应于核阻止本领 和电子阻止本领 。对于低能离子，核阻止本领是主要的，而对于高能离子，电子阻止本领则是主要的。 溅射的基本原理——溅射机理 离子注入： 如果入射离子的速度方向与固体表面的夹角大于某一临界角，它将能够进入固体表面层，与固体中的原子发生一系列的弹性和非弹性碰撞，并不断地损失其能量。当入射离子的能量损失到某一定的值（ 约为20eV左右 ) 时，将停止在固体中不再运动。上述过程被称为离子注入过程。 Ion E atoms 溅射的基本原理——溅射机理 溅射现象： 当级联运动的原子运动到固体表面时，如果其能量大于表面的势垒，它将克服表面的束缚而飞出表面层，这就是溅射现象。溅射出来的粒子除了是原子外，也可以是原子团。 溅射的基本原理——溅射机理 入射离子（ E0 ） 原子 溅射原子 二次电子 溅射的基本原理——溅射机理 离子与靶相互作用 ? 按参与碰撞粒子的种类划分： 入射离子（或载能原子）?静止靶原子的碰撞 反冲原子?静止靶原子的碰撞 ? 按能量损失的方式划分： 弹性碰撞 非弹性碰撞 溅射的基本原理——溅射机理 双体弹性模型： 通常在两种坐标系中研究碰撞二体问题： 1）实验坐标系（实验测量） 2）质心坐标系（理论研究） 实验坐标系 入射粒子（粒子、反冲原子）： 靶原子（静止）： 溅射的基本原理——溅射机理 散射角 反冲角 溅射的基本原理——溅射机理 可以得到：散射原子的能量 反冲原子的能量 其中 溅射的基本原理——溅射机理 当 （对头碰撞） 或 时，有： 溅射的基本原理——溅射机理 当 时，有 电子不能产生溅射。 当 时，有 溅射的基本原理——溅射机理 根据能量转移关系，可以得出溅射产额正比于核阻止截面。 式中， 是核阻止截面， 入射离子能量， 是原子相互作用屏蔽半径， 是表面势能。 溅射镀膜的类型——二级直流溅射 ★ 二级直流溅射 系统结构 基片 溅射镀膜的类型——二级直流溅射 特点：结构简单，可以获得大面积均匀薄膜。 控制参数：功率、电压、压力、电极间距等。 缺点 溅射参数不易独立控制，放电电流随电压和气压变化，工艺重复性差； 真空系统多采用扩散泵，残留气体对膜层污染较严重，纯度较差； 基片温度升高，淀积速率低； 靶材必须是良导体。 溅射镀膜的类型——偏压溅射 ★ 偏压溅射 结构：基片施加负偏压。 特点： 1. 提高薄膜纯度； 2. 提高附着力。 溅射镀膜的类型——三极或四极溅射 ★ 三极或四极溅射 二极直流溅射只能在高气压下进行，因为它是依赖离子轰击阴极所发射的次级电子来维持辉光放电。 当气压下降（1.3-2.7Pa）时，阴极暗区扩大，电子自由程增加，等离子体密度下降，辉光放电将无法维持。 负电位 溅射镀膜的类型——三极或四极溅射 稳定电 极电位 溅射镀膜的类型——三极或四极溅射 特点： 1. 靶电流和靶电压可独立调节，克服了二极溅射的缺点； 2. 靶电压低（几百伏），溅射损伤小； 3. 溅射过程不依赖二次电子，由热阴极发射电流控制，提高了溅射参数的可控性和工艺重复性； 缺点： 不能抑制电子轰击对基片的影响（温度升高）；灯丝污染问题；不适合反应溅射等。 溅射的基本原理——溅射特性 5. 靶材温度 靶材存在与升华相关的某一温度。低于此温度时，溅射率几乎不变；高于此温度时，溅射率急剧增加。 溅射的基本原理——溅射特性 溅射原子的能量和速度 溅射原子的能量（5-10eV）比热蒸发原子能量（0.1eV）大1-2个数量级。 溅射原子的能量与靶材、入射离子种类和能量、溅射原子的方向等有关。 几组实验数据曲线。 溅射的基