微机械金刚石薄膜谐振器.pdfVIP

杨艺髂王效东’解健芳，王渭源，但京铰· 中国科学院E海冶金研究所传感技术国家重点实验室 +中国莽陴院匕j螭台垒研究所离子束开放实验室 【摘要】本文提啦一种金刚石表面微加工技术，用掺杂的金刚石薄膜作结构层，多晶 ● 硅薄魄倒西牲层，用氧离子柬刘蚀金刚石薄膜和氢氧化钾腐蚀多晶硅，制成了粱式和叉子 式金刚石薄膜谐振器。文中讨论了工艺上的问题和得到的初步结果。 关键词：金刚石i鞫膜，表面锭咖工技术t镍咖械 一、介绍 作为—种功能材料，金刚石薄膜拥有许多优良的性能，使得它在微机械传感器和执行 器领域有着诱^、的前景。高的热导率可以让金刚石薄膜器件在大功耗的环境工作-—种单 —结构的金刚石加热器和温度传潞已经研制出来n 我们采用表痂微扪翮口工技术制作金剐石薄膜谐振器，用化学气相沉积法合成多晶金 月炳薄膜。由于=金fl删蹴德蚀性，制黜啮!_}去黼蛔谭适用，澎r拨程了许多方法 来解抉这个难题，比j蝴生馏挚～．漩耀强刻鼬I．1，幽西幢离子亥啪妒。虬E方法 aI．嗣和EdodaL‘4报道了采用N20 难以获得器件要求的精细线条和陡直侧壁。E五窟r踟d 或NO，气体刻蚀金荆石薄膜的结果。本文报道制作金剐石薄膜器件的表面微加工技术， 并制作了金月噼淄嚷谐振器。 二、实验 图I为制作金刚石薄膜谐振器的工艺流程。选取重掺杂(电阻率为I．4×10dQ‘cm)、 1 沉积氯化硅黻 ll晶向的硅片作村底，同时作为 下电极。接着用低压化学气相沉积 沉积多晶硅薄膜 (LFCVO)分别沉积021．tin厚的氮化 沉积金刚石薄膜 硅作绝缘屡和2．2I-tm厚的多晶硅作 舞 牺牲层。表面经过直径为0．5}am的 蒸挂铝瞳 金拇《石微粒的研磨处理，目的是为了 增强金刚石的成核密度。用热丝CVD 光燃 法生长2j岫厚的金刚石薄膜，同 时进行掺杂，作上电极。金剐石薄膜 ● 的生长条件如下：CH与H2之比为 1％，气压6000Fa，衬底温度800。C， 罂兰!融多肫，碱㈣生长速率l咖_l}1一。接着蒸发0,8)am 厚的铝膜，经光刻、腐蚀形成刻蚀金 口硅一鄹艺硅叠多晶硅圈翎悟●铝 刚石的掩膜。用氧离子柬刻蚀金刚石 甍l制作金翱炻薄膜谐振器工艺流程囤