反应溅射法连续制备CeO2隔离层.pdfVIP

材料研究 反应溅射法连续制备Ce02隔离层 张华，刘慧舟，杨坚，金薇，杨玉卫，古宏伟 d匕京有色金属研究总院超导材料研究中心，北京to0088) 摘要：用带有反应溅射装置的走带系统在立方织构的Ni一5％w衬底上连续制备了长10cm的CoO：隔离层。为避 免金属衬底氧化，以H20作为反应气体。论文主要研究了衬底温度、走带速率对CeO：隔离层外延生长的影响。用X 射线0～2e扫描，9扫描对薄膜的取向和织构进行表征。结果显示在温度650C，走带速度2．5mm／s的条件下，连 续制各的Ce02隔离层有效地继承并改善了基底的织构，平均平面内Q扫描半高宽为6．18。，扫描电镜(SEM)观察 表明薄膜表面致密，且无裂纹生成。 关键词：反应溅射；连续沉积；CeO：隔离层；NiW衬底 Inm，其 1引言 CeO：为它方晶体萤石结构，晶格常数是0．541 [1lO】方向的晶格常数和Ni与YBCO的晶格失配度仅为 vaa2Cu，07．—nrEICO)超导材料具有高的不可逆场，更适 合在高温高场下使用，且在超导强电领域有着更广阔的应 8．09％和1．3％，且化学性质稳定，机械强度高，结构致密，是 用前景，因此以YBCO为基础的第二代高温超导带材已成 一种非常合适且常用的隔离层材料。 为国内外超导研究的热点㈣。但由于YBCO超导体的弱连 本文报道在Ni一5％w的轧制辅助双轴织构(凡惦11rS) 接效应，无法用机械加工的方法将其制各成带材，所以人们 · 基带上协，采用反应溅射M方法连续制备CeO：隔离层的研 一直设法把YBCO沉积到柔性金属基底上制成带材。目前 究结果。为保证所需取向的CeO：隔离层的生长，又避免金 属基底的氧化，试验以H如作为反应气体嘲。 的金属基带主要以Ni和Ni合金为主，因Ni与YBCO间互 扩散严重，不能在Ni基带上直接制备出性能良好的YBCO 超导层，所以必须在Ni基带与YBCO超导层间加入一层2试验过程 或多层氧化物隔离层来改善YBCO的性能。隔离层主要有 本文采用一台自制的两靶溅射设备，该设备主要包括 两个作用：一是阻挡基带和超导层问原子的互扩散；二是为 溅射腔体和走带系统(ree卜哟一reel)两部分，走带系统带有 超导层生长提供一个良好的模版川。 张力控制器，能将张力控制为O．5～2．ON。加热方式为辐射 基金项目：。十一五973计划(20061瑚01005)和863计划(2006AA032205) ofcrudfor- G1．1allzhou．Mechanism proc．ses阴．Hydrometallurgy,1980，．5(2～3)：97—107【7]LiuJiaagshe,．Laa压uoyue，Qiu in South Teeh- marion 【6】刘晓荣，邱冠周，胡岳华等．萃取界面乳化的固体微粒稳定机理 00pp盯solventextraction[I]．CentralUniversity 田．中南大学学报，2004，35(1)：6-10 nology，2002．，9(3)：169．-172 onMechaaismofIn触ialEmulsification Solvent