沉积参数对含氢非晶碳膜结构及性能的影响.pdfVIP

维普资讯 真 空 科 学 与 技 术 学 报 第28卷 第 1期 CHINESEJOURNALOFVACUUMSCIENCEANDTECHNOLOGY 2O08年 1、2月 沉积参数对含氢非晶碳膜结构及性能的影响 李 明 王 凤 张 艳 蔺 增 巴德纯 (东北大学 沈阳 11OOO4) GrowthConditionsandMechanicalPropertiesofa-C：H Films LiMing，WangFeng，ZhangYan，LinZeng ，BaDechun (NortheasternUmversiq，Shenyang110004，Chn／a) Abstract Thea-C：Hfilmswere’grownbyradiofrequencyplasmaenhancedchemicalvapordeposition (RF= PECVD)onthetransitionlayercoatedstainlesssteelsubstrates．Theinfluenceoffilmgrowthconditions，includingflow ratioofCH4andHE，inputpowerandargon pressure，etc．Was studide ．Th efilmswerecharacterizedwiht Ranlen spec- troscopy，X-rayphotoelectronspoctroscopy(XPS)nadconventionalmechnaicalprobes．Thefiml isahybridofspnadsp amorphouscarbon．Th eresultsshow htathteinputpowernadhybmgen-richplasma stronglyaffcetshtefilm mechnaical pmporties．Forinstance。higlycompacta-C：Hfilmscanbegrownatalowinputpowernadahighhydrogenpartialpres- sure．Moreover，htesmooht filmshavelow frictioncoefficient，hi．ghscffacehardnessna dhighwear-resistance，na dstrong intefacialabhesion． Keywords Hydrogenatde ma oprhouscarbonfiml ，RF-PECVD，Transitioninterlayer，Hardness，Frictional wear 摘要 本文利用射频等离子体增强化学气相沉积 (RF_PEcvD)技术，以CH4、H2为气源，Af为稀释气体，通过增加过渡层 和改变输入功率和气体成分比例 (CH4／n2)，在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜 (a-C：H)。利用拉曼光谱 (Raman)、X射线光 电子能谱 (XPS)、纳米显微硬度计和摩擦磨损试验机等研究手段对含氢非晶碳膜的形貌、结构 、显微硬度和耐磨性进行 了表 征。Ramas光谱和XPS分析表明，薄膜是由 和 杂化组成的非晶碳膜。显微硬度和摩擦学测试表明，在较低射频功率和 富氢等离子体中沉积的a—C：H膜表面光滑、结构致密，薄膜的硬度、摩擦系数、耐磨性和结合力等性能较好。 关键词 含氢非晶碳膜 射频等离子体增强化学气相沉积 过渡层 硬度 摩擦磨损 中图分类号：TB79 文献标识码：A 文章编号：1672—7126(2008)01—064-03 含氢非晶碳(a．C：H)膜具有诸多优异的物理和 硅、钛或钨元素，或者制备不同功能梯度膜 以提高薄 化学性能，如高硬度、高介电常数、高弹性模量、低摩