氧分压对工业纯铁等离子注入和氮化的影响.pdfVIP

氧分压对工业纯铁等离子注入和氮化的影响.pdf

  1. 1、本文档共5页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
氧分压对工业纯铁等离子注入及氮化的影响 包娟娟1刽 晛1苏永要1孙 鸿 1白彬2张鹏程2冷永祥1 黄楠1 1西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室,材料科学与工程学院,四川成都610031 2表面物理与化学国家重点实验室,四川江油621700 摘要:前期工作中,我们采用氮气高频低压等离子体浸没离子注入(HLPⅢ)氮化技术大幅度提高了工业纯铁的 力学性能及耐腐蚀性,为了研究在低真空条件下利用HLPⅢ氮化技术对工业纯铁表面改性,降低处理成本,促进 工业纯铁HLPⅢ氮化技术的工业应用,本文研究了基底真空 (残余氧气)对纯铁高频低压等离子浸没离子注入及 氮化的影响,在注入及氮化过程中通入少量氧气,人为降低设备的基底真空度 (增加真空室中残余氧气)。通过X 射线衍射 (XRD)分析了HLPⅢ氮化前后工业纯铁表面的相结构;利用显微硬度和销盘式摩擦磨损实验评价了改 性前后工业纯铁的硬度及耐磨性等机械性能;在0.9% NaCl溶液中进行电化学腐蚀实验评价了改性后工业纯铁的 耐腐蚀性。研究结果表明,与在高基底真空度下 (未人为通入氧气)进行等离子体浸没离子注入(HLPⅢ)氮化 的样品相比,当通入氧气分压较小时(<6.5×10-3Pa),残余氧的存在不影响氮化层的结构成分和性能,表面改 性层主要由Fe2N和Fe3N相组成,样品具有高的硬度、耐磨性和耐腐蚀性;但是,随着氧气分压的增大(>9.4× 10-3pa),样品表面的相结构由Fe2N和Fe3N的混合相向Fe3N和Fe3O4的混合相转变,硬度和耐磨性降低,耐腐 蚀性下降,说明采用氮气高频低压等离子体浸没离子注入(HLPⅢ)氮化技术对纯铁表面处理,要保证真空室中 残余氧气分压小于6.5×10-3Pa。 关键词:高频低压等离子体浸没离子注入;工业纯铁;氧分压;摩擦磨损性能;耐腐蚀性 Industrialpureironmodifiedbynitrogenplasmaimmersion ionimplantationatdifferentoxygenpartialpressure BAOJuanjuan1GUIXian1 SUYongyao1 SUNHong1 BAIBin2 ZHANGPengcheng2LENGYongxiang1,HUANGNan1 1KeyLaboratoryforAdvancedTechnologiesofMaterials,MinistryofEducation,SchoolofMaterials ScienceandEngineering,SouthwestJiaotongUniversity,Chengdu610031SichuanChina; 2StateKeyLaboratoryofPhysicalChemistryofSurface,Jiangyou621700,Sichuan,China Abstract:Inourpreviouswork,nitridinglayerwaspreparedonironbyHighfrequencyandlowvoltageplasmaimmersion ionimplantation(HLPⅢ),whichimprovemechanicalpropertyandcorrosionresistancofindustrialpureiron.Inordertore ducethetreatmentcostoftheironnitridingandpromotetheapplicationofHLPⅢ nitridingtechnologyinindustrialarea,the microstructureandpropertiesofnitridinglayersynthesizedlowervacuum(highO2partialpressure)werestudied.Theoxygen wasinletintovacuumchamberintheprocessofHLPⅢ nitridingtodecreasetheequipmentbasevacuum(increasedtheO2 partialpressure).ThemicrostructureofthenitridingTheoxygenwasinletintovacuumchamberintheprocessofHLPⅢ ni tridingto

文档评论(0)

july77 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档