易于微孔道填充的纳米CuO的制备.pdfVIP

2015年4月 易于微孔道填充的纳米CuO的制备 李明会，等 doi：10．3969／j．issn．1001-8352．2015．02．001 易于微孔道填充的纳米 CuO的制备米 李明会 胡 艳 郭 锐 沈瑞琪 叶迎华 吴立志 南京理工大学化工学院(江苏南京，210094) 摘『 要] 分别采用直接沉淀法和快速沉淀法成功地制备了易于微孑L道填充的纳米 CuO粉末。直接沉淀法的铜 源是无水 CuSO，沉淀剂是Nac03；快速沉淀法的铜源是Cu(CH3COO)：·H20，沉淀剂是NaOH。通过XRD、SEM、 TEM和SAED等分析手段表征产物的晶体结构、微观形貌及晶粒尺寸。结果表明，直接沉淀法的陈化时间对制备 样品形貌和结构有影响。当前躯体陈化时间为3h时，直接沉淀法制备的CuO纳米颗粒平均粒径约为25nm；快速 沉淀法制备的CuO纳米颗粒平均粒径约为6nm。与直接沉淀法相 比，快速沉淀法制备的纳米 CuO粒径更小 、颗粒 分散更均匀。 『关键词 1 微孔道填充 ；纳米CuO；沉淀法；制备 分类号] TQ563；TF123．3 引言 此外，纳米CuO的制备方法还有溶胶凝胶法ll、微 CuO粉体是一种具有窄能带隙(1．2eV)的 P 乳液法[1、固相法 。。等，这些方法也存在产率低、 型半导体材料，广泛应用于高温超导材料、热电材 样品团聚的缺点。利用原料易得、操作简单且产量 料、磁致 电阻材料等领域，是一种重要的工业产 高的方法来制备粒径小、分布均匀的纳米 CuO一直 品 1-3] 纳米 CuO的粒径介于 1～100II1TI，具有表面 是人们研究的一个重点方向。 效应、量子尺寸效应 、体积效应以及宏观量子隧道效 Pelletier等[2l_将纳米 CuO填入碳纳米管中，进 应．在很多领域比大尺寸CuO粉体显示出更优越的 而制备出填充叠氮化铜 [cu(N)，]的碳纳米管，该 性能 。因此，纳米 CuO的制备及其应用受到了 结构能够有效降低Cu(N)，的静电感度，从而提高 人们 的普遍关注 。洪伟 良等 ¨6]的研究表 明纳米 其实用性。然而，纳米CuO在碳纳米管中的填充效 CuO可以降低黑索今(RDX)的热分解温度，对 RDX 率较低 ，所以碳纳米管中Cu(N)，的产率很低 。为 的分解具有催化作用；他们的研究还发现，负载纳米 了进一步提高 Cu(N)，的产率，可考虑先将纳米 CuO的碳纳米管对双基推进剂 的燃烧有催化作 CuO填充在模板的孔道中．然后利用化学气相沉积 用 。由于纳米 CuO理论 电容高、无污染特性，可 法在模板的微孔道中制备碳纳米管。 作为下一代锂离子充 电电池的电极材料_8]。另外， 为了制备粒径小、分散均匀且易于在微孑L道中 纳米 CuO在催化、光探测器和气体传感器等方面的 进行填充的纳米 CuO．本文分别 以无水 CuSO 和 应用也非常广泛 l9。 。 Cu(CHcoo)，·H，O为铜源，采用直接沉淀法和快 前人的研究结果表明，纳米 CuO的微观形貌包 速沉淀法制备纳米 CuO。利用 x射线衍射 (XRD) 括纳米粒子、纳米管…]、纳米线[12]、纳米片_13¨和纳 分析、扫描电镜 (SEM)、透射 电镜 (TEM)和选区电 米花 14]等 。Zhu等 [15]采用快速沉淀法制备出分散 子衍射(SAED)等分析手段对产物的晶体结构、微 性好、平均粒径为6Hm的CuO，该方法简单，但产率 观形貌及晶粒尺寸进行了表征，并将两种方法制备 较低。李冬梅等 1]采用络合沉淀法制备出粒径在 的纳米 CuO进行 了比较。 40 60nm之间的纳米 CuO，这种方法制备的纳米 1 试验 Cu0粒径均匀，但团聚严重。Kida等 1]