直流磁控溅射制备两英寸YBCO双面超导薄膜.pdfVIP

直流磁控溅射制备两英寸YBCO 双面超导薄膜 李弢 王霈文 古宏伟 王小平 谢波玮 北京有色金属研究总院超导材料研究中心 北京新街口外大街2 号 100088 摘要 报告了以直流磁控溅射方法在两英寸LaAlO3 基片上制备YBCO 双面超导薄膜的Tc、Jc 和Rs 特性。获得的双面YBCO 薄膜的厚度大于300nm 。研究了双面薄膜的Jc 及Tc 均匀性， 及工艺参数对其影响。结果表明适当降低基片温度、提高Ar/O2 混合气体中O2 分压可以提 高Jc 均值，改善均匀性。最高Jc 均值可达3.08MA/cm2 ，且分布均匀。获得了Tc 均值大于 90K 的均匀分布。Rs 对两次成膜的工艺参数比较敏感， 关键词：大面积双面超导薄膜，YBCO, 磁控溅射 PACC 代码：7360K, 7470V 1．引言 大面积双面高温超导薄膜是超导电子学器件如超导滤波器、延迟线等的基础材料。 YBa Cu O (YBCO)是目前性能优良的高温超导材料，在液氮温度下具有低微波表面电阻、 2 3 y 低微波插入损耗、高临界电流密度等优点，因而在高温超导器件中获得了广泛的应用[1,2] 。 采用直流磁控溅射制备大面积高温超导薄膜，由于负氧离子反溅射的影响，可能带来薄膜表 面成分分布不均，因此一般采用离轴溅射或中空筒型YBCO 靶材溅射[3,4]。直流磁控溅射 制备YBCO 双面超导薄膜受靶材状况、靶基距、磁体状况、基片温度、混合气体气压等各 种条件影响[5]，因此研究这些工艺对大面积双面YBCO 超导薄膜性能的影响是非常重要的。 特别是大面积双面超导薄膜要求Jc 、Tc 等性能在平面上分布的均匀性，双面性能的一致性， 研究工艺对Jc 、Tc 均匀性和一致性的影响对于制备高性能双面YBCO 薄膜，进而提高器件 的使用性能也是非常重要的。 2 ．实验 基片采用合肥科晶公司提供的2 英寸双面抛光LaAlO3 (100)单晶基片。溅射靶材采用倒 筒中空YBCO 靶材，内径95mm ，厚10mm 。溅射电流为1.0 －1.5A，基片温度670 －700oC， 溅射气体总压30 －40Pa ，O2 分压13-14Pa。采用制膜的过程为：在平面型的铂加热器上放 置基片，先进行一面薄膜的准备，然后翻转基片，进行第二面薄膜的制备。溅射时间为8 小时/面。溅射完成后，样品随炉冷却，在600oC 时充氧至0.85 个大气压进行退火。几种不 同条件下制备的样品及工艺参数由表1 给出。 表-1 所测样品的工艺参数 样品编号. 基片温度 基片温度 O /Ar 气压比 溅射气体总压(Pa) 2 o o ( C, 第一面) ( C, 第二面) 1 690 683 0.7 34 2 685 678 0.7 34 3 685 678 0.74 33 制备的薄膜样品在77K 液氮中，以Jc-Scan Lepzig 非接触式Jc 测量仪测试样品的Jc 特 性和均匀性。以液氮做冷却剂，以中科院物理所研制的非接触式Tc 均匀性测试装置测试Tc 值和均匀性。Rs 测试采用TE011 + δ 模悬置蓝宝石高Q 谐振器法，在E8257C Opt.520 / 8757D /85025A SNA 测试系统中测试，条件为77K, 10GHz 。 3 ．结果与讨论 3.1 基片温度对Jc 及其均匀性影响 图1 是样品1 的Jc 均匀性测量结果。从图中可以看到，获得的YBCO 双面超导薄膜体 现出比较好的Jc 均匀性。双面的Jc 均值分别为 2 2