衬底温度和氧分压对ZnO：Al薄膜性能的影响研究术.pdfVIP

第 10卷第 1期 纳米}S~．Y--_T--艺 Vo1．10No．1 2013年 2月 Nano-processingTechnique February2013 衬底温度和氧分压对ZnO．．AI薄膜 性能的影响研究术 张恺，鲍玉文，高云 (湖北大学物理学与电子科学技术学院，湖北 武汉 430062) 摘 要：以掺杂质量数为2％的A1O：ZnO~靶材，用激光脉冲沉积法，通过改变氧压和衬底温度 调整薄膜的性能，制备得到相对优质~ZnO：A1薄膜，采用X射线衍射、紫外一可见分光光度计和 霍尔效应测试仪等表征其物相、光学和电学性能，最终得到电阻率为1．27x10[~／cm 、平均光透 过率超过80％的透明导电薄膜。 关键词：激光脉冲沉积；铝掺杂的氧化锌；透过率；电阻率 ResearchontheEffectofOxygenPartialandSubstrateTemperature