Cl-对Zn-Ni合金共沉积Zn转移电流密度影响的机理的研究.pdfVIP

2005年上海市电饺与表面精饰学术年会论文集 !嚷} cl‘对zn-Ni合金共沉积zn转移电流密度影响的机理麟势 ．． 董晓明 印仁和 张利 摘要。在氯化物电解液中Zn-Ni合金共沉积存在着由正常共沉积转变成异常共沉积的zn转移电流密度，该转移电流密 度随着C1‘浓度的增加而增加。文章首次利用Ni电极拉曼光谱研究了其共沉积机理，证实了中间体NiClad存在。 关键词tZn-Ni合金I转移电流密度j拉曼光谱 Zn OfCl_ontheTransitionCurrent of Ef髓ct Density the ofZn-Ni ElectrodepositionAHoys during current ofZnwhenthenormal ofZn—Ni at existsatransition Abstract：There density CO—depositionalloys iSfirst that valueincreasewithC1一concentration．It chloridebathsturnstoanomalous reported type．The the mechanismofZn—Ni is Raman theexistence co—deposition alloysinvestigatedthroughspectrum，confirming ofNiClad． Words：Zn—Ni current density：Ramanspectrum Key A1loys：Transition Zn-Ni合金镀层具有比单纯锌镀层优良的耐腐蚀正的Ni析出，并保持较高的电流效率，合金组成变化不大， 性能而受到广泛的关注“”1．栗本树夫等。1认为锌镀层表 属异常共沉积：在高电流密度范围内，Ni含量又开始上升， 电流效率再次下降．J点的电流密度为转移电流密度．图2 面因生成Zn(OH)。膜。故耐蚀性较好．但当zn(0H)z转变成 ZnO时，腐蚀速度加快，而Zn-Ni合金镀层则因可抑制 zn(oH)。向ZnO的转变，从而提高了耐腐蚀性．本文从 zn—Ni合金共沉积的类型出发，讨论了C1一对zn转移电流 密度的影响。并首次利用Ni电极拉曼光谱研究产生该影 响的原因，国内外学者对此研究甚少，至今未见报导。 1 实验 采用三电极体系．阳极为Pt电极，阴极为cu电极(1 五誓■奄葛■_量■U一番_零 ×lcm2)，饱和Hg—Hg。s0。为参比电极．用zF一5恒电位仪定 电量(IOC·cm-2)，恒温40℃电沉积．电流范围为0．01～