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江锡顺 等 :衬底温度对 Zn S 薄膜微结构和应力的影响 1121 衬底温度对 Zn S 薄膜微结构和应力的影响 江锡顺 ,曹春斌 ,蔡  琪 ,宋学萍 ,孙兆奇 (安徽大学 物理与材料科学学院 ,安徽 合肥 230039) 摘  要 :  采用射频磁控溅射法分别在不同温度衬底 测量分析 Zn S 薄膜的微结构 。XRD 的 X 光管为 Cu α 上制备了厚度为 320nm 的 Zn S 薄膜 ,用 XRD 和光学 靶 ,Cu K 射线波长为 0 . 154056nm 。管压为 40kV ,管 相移技术研究了不同衬底温度下薄膜的微结构和应 流为 100mA ,扫描方式为连续扫描 ,步宽为 0 . 020°,扫 力 。结果表明:不同温度衬底上沉积的 Zn S 薄膜均呈 描速度为 8 . 000°/ min 。测量衍射峰的半高宽 , 根据 多晶状态 ,衬底温度由50 ℃上升到 400 ℃的过程中 ,其 Scher rer 公式可算出晶粒尺寸 : 择优取向发生了变化 , 晶粒有明显的生长方向; Zn S 薄 kλ ( ) D = 1 膜应力随着衬底温度升高逐渐减小 ,衬底温度在 250 B co sθ λ θ ~350 ℃之间的 Zn S 薄膜应力较小且在选区内分布比   式中 k = 0 . 9 , = 0 . 154056nm , 为Bragg 角 ,B 是 较均匀 。 衍射峰的半高宽 ,可计算出晶粒大小 。再利用布拉格 关键词 :  Zn S 薄膜 ;衬底温度 ;微结构 ;应力 方程 : θ λ ( ) 中图分类号 :  O484 文献标识码 :A 2 dsin = 2 ( ) a 文章编号 :100 1973 1 2006 07112 103 ( )   和 :       d =

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