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掺杂Y舡氧化锌压敏电阻陶瓷的显微组织及电性能
末粒径均为200目(约731am)。
采用不锈钢球、尼龙罐,在行星式高能球磨机中加乙醇湿磨,转速500
rpm,
球粉比20:1。球磨5h后,将浆料在200℃烘干。在同样条件下,将烘干后的
粉末干磨lh,以消除较大的粉块。用万能液压机将粉末单轴压成直径10mm、
厚度2mm的圆片后,放于炉中在800℃、空气气氛下烧结2h,加热速度5℃/min,
炉内冷却。
用X射线衍射仪(D/max2550V,Cu.KC1)分析样品的相结构,电子探针
(JEOL
成分。氧化锌平均晶粒尺寸(D)通过显微组织照片测量来确定,测量晶粒个
能,在烧结圆片的两个表面被银,600℃下烧成电极。测量样品在1.0mA和0.1mA
流在0.75
HmA下测量。冲击电流测试在8/20ps冲击电流发生器上进行,采用
8/201as,5kA冲击电流冲击试样。在冲击电流发生器上读出残压值Kkv。’试样
体积采用尺寸测量方法测出。采用压敏电阻直流参数测试仪测出冲击前后HmA
及,L变化。
采用晶界缺陷模型11】来计算施主浓度(Ⅳd)、势垒高度(多B)、界面态密
有关,即发射电流密度:
.,:A丁2e(廊%一妒B),玎 (1)
boltzmann常数,T为绝对温度,夕为与势垒宽度有关的常数,由下式决定:
(2)
r∞4兀£。£.
肘去杀);
式中,r.为单位长度的晶粒数,∞为势垒宽度,e为电子电荷,fo为真空介电常数
(8.85×10-14F/cm),£,为相对介电常数(氧化锌为8.5)。将丁固定在室温,作
lnJ-E忱图。妒B可从回归线与In./轴线的截距来获得;常数夕可从图形的斜率获
得;r.由SEM的测量获得;∞由(2)式求出。Ⅳd由下面表达式【l2】求得:
0)2=—2—《0_=B-£—o—Er (3)
e2Nd
·9‘
纳米科技发展——2006年上海纳米科技与产业发展研讨会论文选
3结果和讨论
20
t。)
图l氧化锌压敏电阻Y1~Y4在800C烧结2h的x射线衍射谱
些背散射电子图像由四部分组成:灰色、白色、灰白色与黑色区域。白色、灰
合XRD分析表明,白色区域为富Bi相,灰白色区域为尖晶石相,灰色区域为
ZnO相,黑色区域是在烧结及试样抛光时形成的孔隙。由图2可看出:①掺入
入量的增多,富Bi相与尖晶石相混合的程度在加大,这可能是由于
Bi—Zn.Sb.Y-O相数量增多造成的。
图4给出了氧化锌压敏电阻陶瓷电位梯度、密度与Y20。含量的关系。随Yz03
高于未添加的。.电位梯度随Y20。含量的增加而逐步提高,当Yz0。含量为0.10
m01%时,电位梯度达到最大值2197V/硼。
·10·
掺杂m氧化锌压敏电阻陶瓷的显微组织发电性能
图3图2(d)巾小间选区的X射线能谱分析
(a)A指示区;(b)B指示区:(c)c指示医
纳米科技发展——2006年上海纳米科技与产业发展研讨会论文选
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