镍—碳化钨微粒复合电沉积机理的研究.pdfVIP

维普资讯 第 lO卷 第 10期 物 理 化 学 学 报 V0lJ10．No．10 1994年 l0月 AGTA PHYSIC0 ．CHIM ICA SINICA oct．．1994 豫．碳佑鸡、氢舍辛商屋r 机糟 ． 镍 ．碳化钨微粒复合电沉积机理的研究 8{1—3}章奇、鞋 朱 刘淑兰 郭鹤 ． f天津大学应用化学系 天津 300072) A摘要研究了在普通镀镍溶液中导电性微粒碳化钨与基质金属镍形成复台镀层的电沉积过程．实验结 果表明，导电性的W C微粒在与 Ni共沉积形成 Ni—W C复合镀层的过程中，也遵循 Guglielml的 两步吸附机理．只是在电极表面，WC微粒的弱吸附藿盏度与强吸附藿盏度的比值，较非导电性微粒 的复合共沉积体景的要小得多． 关键调 ：复合镀， Ni—WC 复合镀层， 导电性微粒， 共沉积机理， 两步吸附模型 采用复合 电沉积技术，可以获得许多具有特殊功能的复合镀层 _lJ_近年来的研 究表 明，复合 电沉积技术作为制备复合材料的一种方法，已在材料科学领域 中占有一定的地 位 ．随着复合 电沉积技术的发展和复合镀层的开发应用．人们对复合电沉积理论的研究也 日趋深入，相继提出了一些有关的复合电沉积机理 _2J_若认定流体动力等因素起控制作 用，则称为机械截留或力学机理 ；若认定阴极与溶液界面间的电场起控制作用，则称为电 化学机理．Guglielmi[z]从 电化学机理出发，提出了微粒与基质金属共沉积的两步吸附模 型．第一步，携有吸附离子及溶剂分子膜的微粒与阴极发生弱吸附．其性质是物理的，弱 吸附的微粒与悬浮于镀液中的微粒处于平衡．第二步，处于弱吸附的微粒脱去所吸附的离 子和溶剂化膜，与阴极发生强吸附，其性质是化学的．随后，强吸附微粒被 电沉积的金属 包埋并嵌入到镀层 中． Gu elmi摸型的正确性 已为多种非导电性微粒与金属共沉积的 复合 电沉积体系所验证 p一，但是，对于导电性微粒与基质金属共沉积的复合 电沉积机理 的报导，还不多见． 本研究通过对导电性的WC 微粒与金属镍共沉积形成 Ni—WC复合镀层过程的分 析，考察两步吸附机理对 Ni—WC复合共沉积体系的适用性．初步证明， Gu elmi的两 步吸附理论也适用于导电性微粒 wc与基质金属 Ni的共沉积过程． 1 实验 实验 中采用普通镀镍溶液，镀液组成及操作条件为：NiSO4·6H2O290g—L～，NiCI：· 6H2050g—L～，H3BO340g—L-。，pH 3．0，温度 40℃+所用试剂均为分析纯级，用去离子水 配制镀液 ．电镀实验在恒温槽 中进行 ．在镀液 中加入一定数量平均粒径为 4．7m 的 WC I993-06-16收到韧稿， 1993．11-0l收到修改稿． 联景人 ：草奇贤． 国家自然科学基金资助项 目 ¨ 上 海技术师范学院化工系 201418 维普资讯 赦粒 (赦粒经过用镀液充分润湿处理)，采用机械搅拌的方法使微粒充分悬浮于镀液中，然 后进行恒 电流电镀．分别改变镀液中WC微粒的含量和阴桩 电流密度，可获得不同WC 赦粒含量的NiW·C复合镀层．为了测定复合镀层 中WC微粒的含量，阴桩试片采用不 锈钢片．电镀结束后，将阴桩试片取出，用蒸馏水充分洗涤干净，将复合镀层从试片上剥 下，经干燥 、准确称重后，用 HNO3溶液溶解 ，以EDTA络合滴定法测定溶液 中的镍离 子，确定镀层 中的Ni含量，进而可得到镀层 中WC微粒的含量． 2 结果与讨论 2．1实验结果 在 电镀过程 中，维持阴极 电流密度 (Ad·m一0)不变，而改变镀液中WC微粒的悬浮 量 2(gL· )，分别沉积 30—50pm 厚的镀层，然后分析测定所得复合镀层 中WC微粒的含 量 a (体积分数)．结果发现， a 随 z的增加而增大，但增大的速度逐渐减慢 ， a 与 2 的关系具有类