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PECVD种类 PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成 两种类型： 直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就 是电极的一部分。 代表：管式PECVD 间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外， 等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体 也不是电极的一部分 代表：板式PECVD PECVD设备结构示意图 限位开关 极限保护开关 净化系统 步进电机 PECVD System for SiN-AR-coating - Application Antireflective coating Hydrogen passivation (H+) Integrated surface conditioning * 晶片装载区：桨、LIFT、抽风系统、SLS系统； 炉体：石英管、加热系统、冷却系统； 特气柜：MFC 气动阀； 真空系统； 控制系统； * 进料腔(1) 加热腔(2) 工艺腔(3) 冷却腔(4) 出料腔(5) 进料腔----有预热的作用,在载板进入腔体后, 先冲入N2,再进行抽真空; 加热腔 在工艺中起着加热的作用; 工艺腔 在等离子及真空条件下,硅烷与氨气在400 ?C时反应生成Si3N4,覆盖在硅片表面上; 进料腔与出料腔 防止特色气体溢出, 增加安全性. 使电池片体逐渐降低温度 Load Chamber RATHRAU设备结构 进料腔 加热腔 工艺腔 冷却腔 温度：400摄氏度 进料腔：红外加热 加热腔、工艺腔：电阻丝加热 机械泵、罗茨泵抽真空：GV600 无水泵是一个装有3 对凸轮爪马达的4 冲程泵，包括一台主泵和一台备用泵。 EH4200是一种大排水量真空泵，这种泵由一个三相电机通过液态流进行驱动，其允许在较高的压力下进行操作。 气压计 气压开关 温度计 电阻丝加热 机械泵 罗茨泵 返回运输马达和sensors Position sensors Driver 红外加热 出料腔 冷却水＊６ 石英管＊６ 温度设置 速度设置 气压设置 设置功率 实际功率 反射比率 角阀 气体流量 冷却水＊４ * * 等离子体源简图 * * 调节微波功率原则 原则一：左边的微波源有问题，不能正常工作，只能通过调右边来补偿．可这样做整体膜都应变厚，而实际是左边影响最大。 原则二：微波源与膜厚是左边（右边）对应左边（右边）关系，但实际使用的微波功率比较大，当大到一定程度时，改变某一边的功率对该侧膜厚影响较小，对对称的那一侧膜厚影响较大，并且这种观点为多数人所认同． Thank you sincere!!
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