物理气相沉积Cr-Al-N涂层地研究进展.pdfVIP

2008青年摩擦学与表面保护学术会议 物理气相沉积Cr—Al—N涂层的研究 罗军。莫继良。朱晏昊 (西南交通大学牵引动力国家重点实验室摩擦学研究所，四川成都6l0031) [摘要]物理气相沉积(PvD)技术制备的Cr—Al—N涂层因其优异的机械性能和摩擦性能，引 起国内外研究人员广泛关注。本文综述了Cr—Al—N涂层的制备及其性能研究现状。重点讨论了Al元 素对涂层结构、硬度、抗高温氧化性和摩擦学性能的影响，以及该涂层的发展趋势。 [关键词]PvD；Cr—Al—N涂层；抗氧化性能；摩擦磨损；综述 Re鼢rch onPvD PrOg—酷≈ses Cr—Al—N∞a6ngs LUOJunMO ZHUMin—hao Ji—li粕g Research Power State (’IHbolog)r IIlstitute，7IhctionKeyk蛔tory，SoutllwestJiaotongUIlive璐i哆， Chengdu61003l，China) Abs臼陌ct：Cr一灿一N h8ye coa￡in铲preparedbyphysicalvapourdeposition(PVD)￡echniquesbeen谢dely for concemedinallovertllewoddtlleirexcellentmechanical趿d tllis tribological pmperties．IIl ontIle 0ftlleCr—Al—N w鹊reviewed． i11fluence pro伊ess depositionproce踮andpmpenies coatings Besides，tlle of tlles缸uctu弛蚰d oft}leCr一灿一N elementAlon was tlledevel— properties coatingsemphaticaUydiscussed，锄d oftlleCr—Al—N w鹤intmduced． opment佃end c∞tings Keyw盯ds：PVD；Cr—m—N；Q)【idationresistaIlce；Friction锄dwear；Review O前言 和磨粒磨损能力。 随着国内外制造业的飞速发展，涂层材料层出 1 Cr—A卜N涂层的制备 不穷，从最开始的Tic、TiN涂层到目前的Ti—Al— N、Cr—Al—N涂层，不断发展以满足工业需要。特 Cr—Al—N涂层可以在一系列基体材料上使用 别是进入20世纪90年代，研究人员通过多元、多层不同PVD技术制备，如磁控溅射、阴极真空弧源、离 复合涂层设计，使涂层的综合性能进一步提高。 子束辅助沉积等，表1列出了典型PVD制备cr—m 在众多涂层当中，Cr一灿一N涂层显示出优异 —N涂层工艺。影响Cr一灿一N涂层性能的工艺因 的综合性能。它是在CrN涂层的基础上发展起来 素很多，关键的工艺参数有靶材成分、基体偏压、氮