反应溅射Ti（O，N）涂层的微结构与力学性能.pdfVIP

维普资讯 第36卷 第6期 2007年 12月 表表面囱技投不术 VO1．36 No．6 Dec．2OO7 SURFACE TECHNOLOGY 反应溅射 Ti(0，N)涂层 的微结构与力学性能 吴莹。吴昕蔚，李广泽，李戈扬 (上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室，上海 200030) [摘 要] 采用反应磁控溅射方法在Ar、N 和0 混合气氛中制备 了一系列Ti(0，N)涂层，并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微 力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明：随混合气氛中氧分压的提高，涂层中的氧含量逐 步增加，氮含量相应减少，但涂层始终保持与TiN相同的NaC1结构。少量氧的加入，可以改善涂层的结晶状态，涂层的硬度也相应 升高，明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量