高斯光束传播对激光熔覆覆层的影响.pdfVIP

设计 ·研 究 《电加工与模具)2o13年第4期 高斯光束传播对激光熔覆覆层的影响 高文焱，赵树森 ，林学春 (中国科学院半导体研究所全固态光源实验室，北京 100083) 摘要：高斯激光束传播对激光熔覆质量有显著影响。为探索高斯光束传播对覆层几何形貌、结 合质量及稀释率的影响，以Fe901+5％Cr3C2熔覆材料为研究对象，对高斯光束不 同离焦区域进行 了激光熔覆工艺实验 ，对 比了正、负离焦工艺。利用金相显微镜对熔覆层几何形貌、微观结构进行 分析 ，并对显微硬度分布进行测试与对 比。结果显示 ，采用负离焦工艺进行激光熔覆 ，可获得稀释 率较低，边缘 良好冶金结合，无未熔颗粒、缺陷的覆层，覆层显微硬度在900～1000HV 。 关键词：激光熔覆：负离焦 ；稀释率 中图分类号 ：TG178 文献标识码 ：A 文章编号 ：1009—279X(2013)04—0043—03