CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量.pdfVIP

维普资讯 2002．4(132) ·3 · CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量* 200030 上海交通大学机械动力工程学院 晋 占峰 孙方宏 简小刚 胡 斌 陈 明 摘 要 本文以氢气和丙酮为原料，采用电子增强热丝CVI)法，在硅片(100)基体上沉积一层金刚石薄膜， 并采用光刻法和湿式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜 自支撑窗口试样。实验结果表明，所制备的金刚石薄 膜 自支撑窗口刻蚀彻底 ，形状规则，能够很好地满足鼓泡法的实验要求，对 CVD金刚石薄膜力学性能的测量具有 重要 意义。 关键词 金刚石薄膜 硅基体 化学刻蚀 鼓泡法 ABSTRAC3 Diamondthinfilm isdepositedonsiliconslice(100)，usinghydrogenandacetoneasgasresoul~e，by meallsofelectron—enhnacedhotfilamentchemicalvapordeposition(HFCVD)．Free—standingwindowsampleofdiamond thinfilm Was fabricatedbymeallsofphotolithographynadna isotropicwetetching．Accordingtohtetestresults，thewindow of htesampleWas etchde htoroughlyandhtewindow figureofthesampleWas regular．So，htesampleisverysuitableforbulge test．Itissignificna tfortestingofperformanceofCVD dima ondhtinfiml ． KEYW ORDS diamondfiml ；siliconsubstrate；chemicaletching；bulgetest 1 引言 刻蚀硅基体形成 自支撑窗口的同时不会损坏到薄膜。 近年来 ，采用化学气相沉积 (CVD)法、等离子化学 经实验研究表明：所制备 的金刚石薄膜 自支撑窗 口形 气相沉积 (PCVD)法 、火焰燃烧法 、物 理气相沉积 状规则 ，刻蚀彻底 ，残余 内应力小 ，能够很好地满足鼓 (PvD)法、化学气相输运法 、粒子束沉积法以及激光化 泡法的实验要求。在此基础上，进一步研究了应用鼓 学气相沉积 (LECVD)法等来制备金刚石薄膜材料的研 泡法测量金刚石薄膜力学性能的基本原理和实验装 究已经取得了突破性进展，金刚石薄膜的制备与应用 置，对于金刚石薄膜的推广应用具有重要意义。 已经成为薄膜材料领域中一个重要的研究方向。金刚 2 金刚石薄膜窗口的制备方法 石薄膜的制备和实际应用与其力学性能密切相关。对 窗口制作过程示意图如图 1所示 ： 金刚石薄膜的弹性模量 、泊松 比、残余应力等力学性能 的测量在技术上仍然有很大的难度，这直接制约着金 —一 刚石薄膜材料的推广应用。在已有的薄膜力学性能测 量方法中，只有鼓泡法最有可能发展成为综合评价薄 膜材料各项性能的有效方法。鼓泡法是在带有薄膜的 试样上制出薄膜窗口，通过测试装置向薄膜施加压力， 使薄膜受到均布载荷而产生变形 ，变形量与薄膜的力 学性能有关 ，通过测量压强和薄膜的变形 ，得到其中的 沉积金刚石薄膜 除去光刻胶层 关系 ，可以计算出薄膜的力学性能。 f41 霖9() 鼓泡法测量金刚石薄膜的力学性能的关键技术是 塑 金刚石薄膜窗口试样的制备。本文基于鼓泡法的基本 【5) 原理，研究了金刚石薄膜 自支撑窗口试样的制备方法 ， ’ ] 阐述了