集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数研究.pdfVIP

2008年 l0月 金刚石与磨料磨具工程 0ct．2008 第5期 总第 167期 Diamond AbrasivesEngineering No．5 Seria1．167 文章编号：1006—852X(2008)05—0066—05 集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数研究 阎秋生 汤爱军 路家斌 高伟强 (广东工业大学机 电工程学院，广州 510006) 摘 要 本文实验研究了磁感应强度、研抛压力、加工速度及加工时间等几个加工参数对集群磁流变效 应微磨头平面研抛加工效果的影响。实验结果发现，随着磁感应强度的增强，材料去除率增大，而表面 粗糙度略有提高；研抛压力及加工速度与材料去除率成正比，表面粗糙度随加工速度的提高逐渐变大， 而随着研抛压力的增大先降低后增加，当压力为6898Pa时到达最小；随着加工时间的增加，材料去除 量线性增大，而粗糙度先迅速降低后逐渐趋于稳定。在此基础上，提出了集群磁流变效应微磨头平面研 抛加X-的材料去除模型，其加工特征介于游离磨料研磨抛光和固着磨料研磨抛光之间，是一种全新的平 面研抛加工技术，有着较好的应用前景。 关键词 集群微磨头；磁流变效应 ；平面研抛 ；材料去除模型 中图分类号 TG356．28；THI61 文献标识码 A An experimentalstudyofplanarization techniquewithinstantaneous tinygrindingwheelclusterbasedonmagnetorheologicaleffect YanQiusheng TangAijun LuJiabin GaoWeiqiang (FacultyofElectromechanicalEngineering，GuangdongUnivemi~ofTechnology， Guangzhou510006，China) Abstract Experimentswere conducted torevealthe influenceofsomeprocessparameters，such asthe intensityofmagneticfield，thepolishingpressure，therotationspeedandthepolishingtime，onthepolishing propertiesoftheinstantaneoustiny- ndingwheelclusterbasedonmagnetorheological(MR)effectinthis paper．Experimentalresultsindicatethefollowingconclusions：withtheincreaseoftheintensityofmagnetic field，thematerialremovalrate increasesgraduallywhile the suYfaceroughnessdeterioratesslightly；the polishingpressure and therotation speed areproportionalto thematerialremovalrate，butthe surface roughnessincreasesgraduallywiththeincreaseofrotationspeed，whileitdecreasesfirstlyandthenincreases withtheenhancementofpolishingpressure，theoptimalvaluesofthepolishingpressureis6 898Pa；the polishingtime isproportionalto thematerialremoval，with the increase of