脉冲偏压辅助热丝法沉积金刚石膜的实验研究.pdfVIP

2010年02月 第 1期 金刚石与磨料磨具工程 Feb．2010 第30卷 总第 175期 Diamond AbrasivesEngineering No．1 Vo1．30 Seria1．175 文章编号：1006—852X(2010)01—0056—04 脉冲偏压辅助热丝法沉积金刚石膜的实验研究 胡东平 季锡林 梅 军 (中国工程物理研究院结构力学研究所 ，四川绵阳629100) 摘要 本文针对金刚石涂层应用于工具、模具的需要，研究脉冲偏压在热丝法沉积金刚石工艺中促进金 刚石形核、生长的作用。进行了不同脉冲电压、频率、占空比条件下制备金刚石涂层的试验，采用金相显 微镜观察涂层的颗粒尺寸及均匀性、致密性，确定了优化的工艺参数。采用优化的工艺参数在硬质合金 基体表面沉积金刚石涂层，观察金刚石涂层的结构并测试与基体的结合力。结果表明，生长的金刚石涂 层颗粒细小、均匀。与基体的结合力良好。 关键词 金刚石膜 ；热丝 CVD；脉冲偏压 中图分类号 TQ164 文献标识码 A DOI编码 10．3969／j．issn．1006—852X．2010．O1．014 Studyon impulsevoltagebiasenhancedhotfilament methodfordiamondfilm growth HuDongping JiXilin Meidun (InstituteofStructureEngineering，ChinaAcademyofEngineeringPhysics， Mianyang621900，Scihuan，China) Abstract Inthisresearch，aimingattheapplication intoolsand dies，diamond filmsare grown byimpules voltagebiasenhancedhotfilamentchemicalvapordepo sition．Differentparameterssuchasvoltage，frequencynad duty-cyclearetested through diamond growth experinent．Thefilmsraeexamined fortheirhomogeneitynad compactnessbymeansofmetallurgicalmicroscopy．Dima ondfilmsaledepositedonWCalloysubstratebyoptimized processparameters，finecrystal dima ondandhighadhesionoffilms tosubstratesaleobtained． Keywords diamondfilm ；hotfilma entCVD ；impulsevoltagebias 作为工具、模具使用的金刚石涂层必须与基体具有 0 引言 良好的结合力，低表面粗糙度和良好的均匀性，需要金 金刚石涂层广泛应用在各种切削刀具、模具、工具 刚石涂层均匀、致密、颗粒尺寸细小。金刚石涂层的制 和摩擦零件中。CVD方法制备的以硬质合金 (WC— 做需要经过形核和生长两个阶段，其中形核阶段尤其重 co)为衬底的金刚石薄膜涂层工具，具有硬度高、自润 要，决定了金刚石涂层的颗粒尺寸和均匀性，制做工具、 滑性好、使用寿命长、不受形状限制、成本低等优点，特 模具使用的金刚石涂层需要高密度和均匀的形核。电 别适合于非铁材料，如硅铝合金、金属基复合材料、陶 子辅助热丝沉积相比单纯的热丝法能促进金刚石的