强电流直流伸展电弧等离子体CVD金刚石沉积均匀性研究.pdfVIP

维普资讯 2006年2月 金刚石与磨料磨具二L程 February．2006 总第 151期 第 1期 Diamond AbrasivesEngineering Seria1．151 No．1 文章编号：1006—852X(2006)01—0031—05 强电流直流伸展电弧等离子体 CVD金刚石沉积均匀性研究 宋建华 苗晋琦 吕反修 唐伟忠 (北京科技大学材料科学与工程学院，北京 100083) 摘 要 采用特殊的等离子体技术成功研制出适合于金刚石涂层工具工业化生产的中试设备一强电流直流伸展电弧等 离子体CVD-500型中试设备。单腔体沉积的沉积工件数量在100支以上；对该设备的沉积均匀性进行了系统的研究，位 于等离子体扩散区同一柱面不同位置沉积的金刚石形貌及质量均匀、一致，涂层厚度的不均匀度在 ±3．5％的范围内；同 一 沉积试件不同位置处的金刚石形貌及质量稍有差别，但均在许可范围之内，涂层厚度的不均匀度在 ±2％的范围内；等 离子体的扩散区的径向6cm一8cm，轴向距阳极7cm一19cm的范围为该设备的有效沉积区域。 关键词 金刚石膜；强电流直流伸展电弧；等离子体；均匀性；有效沉积区域 中图分类号 TQ164 文献标识码 A Researchonthedepositionuniformityofhighcurrentextended DC arcplasmaCVD SongJianhua MiaoJinqi LvFanxiu TangWeizhong (UniversityofScienceTechnologyBejiing，Beijing100083，China) Abstract ByusingspecialplasmatechnologyHCEDAP(highcurrentextendedDCarcplasmaCVD550systemwasdeveloped) forindustrialdiamondcoating．Morethan100piecesofcarbidetoolsearlbecoatedinonechamber；Thediamondqualityondif- ferentpositionbutonthesame’circleofplasmacolumniSalmosttheBRine．SEM analysisshowthatthenon-uniformityrateoffilm thicknessiSwithin3．5％ ． ediamondquailtyondifferentpositionofatoolhasalitfledifference．Thenon—uniformityrateof film thicknessiSle88than2．O％． eeffectivedepositionzoneofthesystem iS6cm to8cm inradiusdirectionfrom thecenterof plasmacolumn．and7cm 一19cm fromnaodeintheaxisdirection． Keywords diamondfilm ；highcurrentextendedDC ARC；plasma；unifomr ity；effectivedepositionzone 求，本研究所利用特殊的直流等离子体喷射技术，成功 1 引言 地研制 出了大面积强电流直流伸展 电弧等离子体 近年来，国外在硬质合金工具金刚石涂层技术方 cVD—50o型中试设备。在该设备 的有效沉