非平衡磁控溅射制备氮化铬膜及其摩擦学性能研究.pdfVIP

维普资讯 镀 窒童 ’ 堡 ：TiN…。硬度4／1~4,nv～6--610~Hvli，表面粗糙度R约为0．05m。 曼 竺曼 结 譬! 有要高的耍耐磨损性 一一镀膜设备采用s0。 验：袅备结示意 R 图参元 试验中： ：) 。 t7 ／4-- 登詈 譬 。二薹恶 1 薹量垡璧 謇 ． TiN 和，Hq ， s 。 控溅射技术在M2高速钢基体上制备了新 支’4。-IIoi~oc。,]11 空内构 ． 一 系列氮化铬 草衡磁场…。 磁场作用下可以形成均匀分布的等离子体区域。和传 作者简介：刘兴举(1977一)，男，山东兖州人，硕士研究生，主要 从事纳米薄膜制备及其摩擦学性能方面的研究，已发表论文3 统溅射镀膜设备相比，利用这种新型封闭非平衡磁控 篇。联系电话：010-mail：liu—xingju 溅射设备能够以较高沉积速率得到致密而均匀的镀 @ l63．corn 层 。在沉积每个氮化铬镀层之前，启动两个铬靶， 收稿日期：2004．10-08 在400V直流偏压和3kW靶功率条件下沉积 lOmin， 《金属热处理))2005年第3O卷第5期 1 维普资讯 得到厚度约0．2txm的cr过渡层。接着在逐步降低的 偏压作用下，通入氮气，沉积氮化铬镀层。在M2高速 钢试样上分别合成厚度为 300nm、500nm、700nm、 900nm和 1100nm的5种不同的薄膜试样，分别标为 Y300、Y500、Y70o、Y900和Y1100。 D film thickness／nm 图3 试样硬度和膜厚的关系曲线 Fig．3 Relationofthethicknessandmicrohardnessofthefilm 粗糙度 RMS值随薄膜厚度变化呈现出先增加后 降低并趋于稳定的变化趋势，参见图4。由Y30o试样 MagA—Cr 的55nm，急剧增大到Y50o试样的86nm，随后RMS值 图1 非平衡磁控溅射设备示意图 又突然降低，一直达到Y1100试样的稳定值61nm。造 Fig．1 Schematicoftheunbalanced 成这种变化的原因还有待进一步研究。