AZ31镁合金表面磁控溅射SiNx薄膜的性能研究.pdfVIP

· 384 · 材料导报 2008年 12月第22卷专辑Ⅻ AZ31镁合金表面磁控溅射 SiN 薄膜的性能研究 黄佳木L，罗先盛。 (1 重庆大学国家镁合金材料工程技术研究中心，重庆400044；2 重庆大学材料科学与工程学院，重庆 400045) 摘要 采用磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了si 薄膜。用场发射扫描电镜、x射线衍射、X光电子能 谱等研究分析 了薄膜的晶体结构、表面形貌和化学成分。实验结果表明，所制备的Si 薄膜为非晶态的富N膜； Si 薄膜可显著降低AZ31在 3．5 的NaCI溶液中的腐蚀电流密度，膜厚为 1．5ffm时，在阳极极化区出现钝化现象。 关键词 SiN 薄膜 磁控溅射 镁合金 腐蚀 StudyonCharacteristics0fSiN ThinFilmsbyM agnetronSputering onAZ31M agnesium Alloys HUANGJiamu ，LUOXiansheng (1 NationalEngineeringResearchCenterforMagnesium Alloys，ChongqingUniversity，Chongqing400044；2 Collegeof MaterialScienceandEngineering，ChongqingUniversity，Chongqing400045) Abstract SiN thinfilmsaredepositedonmagnesium alloyAZ31bythemagnetronsputteringmethod．Field_ emissionscanningelectronmicroscope(FESEM )，X—raydiffractionandX-rayphotoelectronspectroscopyareeusedto investigateandanalyzethesurfacemorphology，crystallinestructureandchemicalcompositionofthethinfilms．Itis foundthattheSiN filmsareamorphousandnitride-rich，andthecorrosioncurrentdensityoftheSiN thinfilmson AZ31ismarkedlydecreasedin3．5 NaClsolution．Thethickerfilms(1．5urn)onAZ31exhibitapassivationzone． Keywords SiNrthinfilms，magnetronsputtering，magnesium alloy，corrosion 镁合金是实际应用中最轻的金属结构材料，具有密度小、比 1 实验 强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽能力强等优点，广泛应用 于汽车工业、航空航天以及电子产品等许多领域。然而，镁的标 采用JPGF-480型磁控溅射镀膜机在 AZ31镁合金表面沉 准电极电位为一2．34V(相对标准氢电极)，容易被氧化，在表面 积氮化硅薄膜。基板和靶材之间的距离为 10cm，本底真空为4X 形成一层疏松多孔的氧化膜，该氧化膜在潮湿、酸性、中性介质 1O Pa。靶材为 6Ornm×5mm、纯度99．999 的si靶，溅射气 中极易被腐蚀。当镁合金中含有某些金属杂质元素时，还会引 体分别为纯度99．99 的Ar和Nz。薄膜制备的典型工艺参数 起 电化学腐蚀。因此在实际应用中，镁合金必须进行适当的表 为：射频功率 120W．工作气压 1Pa，Nz的流量 15mL／min。镁合 面处理 ，以增强其耐蚀性能。 金基片为 20mm