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材料导报
不同腐蚀深度对多晶硅太阳能电池电性能的影响/马绊奎等 ·203·
不同腐蚀深度对多晶硅太阳能电池 电性能的影响
马继奎 ,陈明敬 ,刘莉丽 ,闫英丽 ,张东升 ,史金超
(1 英利能源 (中国)有限公司,保定 071051;2 风帆光伏能源有限公司,保定 071051)
摘要 研究了多晶硅片表面织构化对太阳能电池 电性能的影响,通过调整工艺参数得到腐蚀深度分别为
2.9,/m、3.8m、4.6,/m的3批样品,采用扫描 电子显微镜 (SEM)和光谱响应系统表征了表面形貌和反射率,分析 了
腐蚀深度与后续各制程的关系。对比了绒面反射率及电性能参数 ,确定了最佳的腐蚀深度。
关键词 多晶硅 酸溶液腐蚀 反射率 转换效率
中图分类号:TK51 文献标识码:A
InfluenceofDifferenceEtchDepthonM ulti—crystallineSolar
CellElectricPerformance
MAJikui,CHENMingjing。,LIU Lili,YANYingli,ZHANGDongsheng,SHIJinchao
(1 YingliGreenEnergyHoldingCo.,Ltd,Baoding071051;2 BaodingFengfanSolarEnergyCo.,
Ltd,Baoding071051)
Abstract Theinfluencefactorsoftexturedsurfaceconditionsonmulti-crystal1inesolarcellwasresearched.
Differentetchdepthsas2.9m ,3.8m,4.6m wereobtainedthroughchangingtheparameters.Themulti—crystalline
siliconsurfacemorphologyandreflectanceweretestedbyscanningelectronmicroscope(SEM)andspectrum response
system respectively.Therelationshipbetweenetchdepthandparameterswasanalyzed.Thebestetchdepthwascon—
cludedthroughtexturereflectivitiesandelectricparameters.
Keywords multi—crystallinesilicon,acidetching,reflectivity,conversionefficiency
0 引言 1 实验
近年来随着新能源行业的发展 ,光伏发电越来越受到人 1.1 实验原理
们的重视,提高效率、降低成本成为人们关注的焦点。在晶 硅片在 HF-HNO。体系中,HNO。作为氧化剂,给硅片
体硅太阳能电池中,提高转换效率的一条有效途径是增加电 表面提供空穴,打破了硅表面的Si—H键,使 si氧化成SiO。;
池对光的吸收。通常需要对切割后的硅片进行陷光处理,去 HF作为络合剂,溶解 SiO。,并生成络合物 HSiF 。化学反
掉硅片经线切割留下的机械损伤层,减小表面复合,降低表 应 的方程式为 :
面的光反射损失,增大电池对光的吸收_1 。常用的方法有
Si+4HNO3— SiO2+4NO2+2H2O (1)
碱式制绒法和酸式制绒法。碱式制绒法一般用于单晶硅片
SiO2+6HF_+[HSiF]+2
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