不同化学蚀刻法对石英基片激光损伤阈值的影响.pdfVIP

· 262 · 材料导报 2009年 5月第 23卷专辑Ⅻ 不同化学蚀刻法对石英基片激光损伤阈值的影响 赵松楠 ，吕海兵，晏 良宏 ，袁晓东，郑万国 (中国工程物理研究院激光聚变研究中心，绵阳62190O) 摘要 为提高三倍频光学元件的表面损伤阈值，采用了不同方式对石英基片进行酸蚀刻，利用原子力显微镜观测了 基片蚀刻前后的表面微观形貌，并在激光损伤测量装置上进行 了R：1方式的阂值测试，比较分析 了蚀刻前后基片激光损 伤闽值和表面形貌的变化，并比较了不同抛光质量石英基片蚀刻效果的差异。通过实验研究，总结了不同蚀刻方式的优缺 点，研究表明酸蚀刻法可以有效提高石英基片激光损伤阂值。 关键词 激光损伤阈值 湿化学蚀刻 石英基片 表面形貌 EffectofDifferentChemicalEtchingonLaserDamageThresholdsofFusedSilica ZHAO Songnan，IU Haibing，YAN Lianghong，YUAN Xiaodong，ZHENGW anguo (ResearchCenterofLaserFusion，CAEP，Mianyang621900) Abstract Inordertoimprovethelaserdamagethresholdsofsilicasubstrates，wetetchingisusedinbufferedhy— drogenfluoridesolutionwithdifferentprocessings．Thesurfaceappearanceofsilicasubstratesafterwetetchingisobserved withscanningprobemiroscopy，andthelaserdamagethresholdsaretestedinthewayofR ：1．Theeffectsofetchingtime anddifferentpolishingqualityonthedamagebehaviorofsilicasubstratesisstudied．Theadvantagesanddisadvantagesa— mongdifferentprocessingsaresummarized．Theresearchshowsthatwetetchingcanimprovethelaserdamagethresholdof silicasubstrates． Keywords laserdamagethreshold，wetetching，fusedsilica，surfacemorphology 0 引言 SiO2+4HF—SiF -F2H2o (siF6)一 本实验对普通的酸蚀刻法加以改进 ，用不 同的蚀刻方式 美国LawrenceLivermore国家实验室 (LLNL)早在 20 对基片进行了处理，并根据结果对不同方式进行 了比较，总 世纪就针对石英基片的表面损伤问题进行了相关的研究，并 结出提高石英基片表面激光损伤阈值最有效的方法 。 认为石英基片生产过程中引起的表面和亚表面缺陷是造成 蚀刻前 蚀刻后 激光损伤的主要诱 因_1]，因此将研究重点主要放在几种石英 ii |‘．．． ·●口■ ●● 基片的表面处理上，并且研究了一整套表面处理方法来降低 这些缺陷带来的负面影响，并总结 出化学蚀刻法是最有效的 手段之一 【 。湿化学蚀刻 的概念起源于 20世纪 7O年代 ， 该技术发展至今，已初步应用在光学元件表面处理工艺 中， 但国内对于此方面的研究仍然非常缺乏，还处于起步